最後更新:2026年10月8日後段製程・先進封裝先進封裝中國大陸:聚酰亚胺

聚醯亞胺(Polyimide)是什麼

Polyimide

聚醯亞胺是在樹脂中具有頂級耐熱性,且絕緣性、強度與耐化學性也很優異的高分子。在半導體中,它作為晶片表面的保護膜(緩衝塗層)以緩和封膠的應力,在先進封裝中則用於重布線層(RDL)的絕緣膜。以旋轉塗佈塗佈後加熱固化,感光性聚醯亞胺則可直接形成圖形。

目錄4 項
  1. 定義與原理
  2. 常見問題
  3. 相關用語
  4. 比較文章

定義與原理

聚醯亞胺(Polyimide)是分子中具有醯亞胺鍵的高分子(樹脂),特點是在樹脂中具有頂級的耐熱性。可耐數百℃的高溫,電氣絕緣性、機械強度與耐化學性也很優異。它以淡黃色~褐色的薄膜廣為人知,廣泛用於太空設備的隔熱材料,以及電子產品中可彎折的軟板材料。

在半導體中,聚醯亞胺很早就被用作保護晶片表面的保護膜。在氮化矽等無機保護膜(鈍化層)上再塗佈數μm厚的聚醯亞胺,可緩和封膠施加在晶片上的應力(緩衝塗層,buffer coat),並保護晶片免受刮傷與水氣影響。在記憶體中,它也曾作為遮蔽膜,防止封裝材料釋出的α射線造成資料錯誤。聚醯亞胺是以旋轉塗佈塗上前驅物溶液,再以數百℃加熱使其固化(醯亞胺化)成膜。若使用可直接以光形成圖形的感光性聚醯亞胺,就能不使用光阻而形成焊墊開口等結構。

在先進封裝中,聚醯亞胺作為重布線層(RDL)絕緣膜的重要性日益提高。在扇出型晶圓級封裝(FOWLP)等結構中,延伸到晶片外側的細微線路層之間,會以感光性聚醯亞胺絕緣。不過,一般聚醯亞胺的固化需要300℃以上的高溫,會造成晶圓或封膠翹曲與劣化,因此業界開發出可在200℃左右固化的低溫固化型聚醯亞胺,以及性質相近的PBO(聚苯并噁唑)等材料。

聚醯亞胺(Polyimide)的常見問題

聚醯亞胺在半導體中用於哪些地方?
主要用於保護晶片表面的保護膜(緩衝塗層),以及先進封裝中重布線層(RDL)的絕緣膜。此外,也曾用於軟板的薄膜,以及記憶體的α射線遮蔽膜。
什麼是感光性聚醯亞胺?
是具有照光部分會溶於或不溶於顯影液之性質的聚醯亞胺,可像光阻一樣,透過曝光與顯影直接形成圖形。由於可省去使用光阻的加工步驟,因此用於形成焊墊開口與重布線層的絕緣膜。

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