最後更新:2026年10月23日高電流離子佈植機

VIISta Trident的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・高電流離子佈植機

單晶圓式高電流離子佈植機。在雙磁鐵帶狀射束架構上結合能量純度模組(EPM),形成陡峭的佈植輪廓。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

VIISta Trident 是應用材料的單晶圓式高電流離子佈植機。在混載記憶體的 CMOS 積體電路中,佈植步驟有時超過 60 道,其中許多會左右元件性能。Trident 是針對這類先進節點要求的機種。

在具量產實績的 VIISta 高電流平台單晶圓架構上,結合雙磁鐵帶狀射束與能量純度模組(EPM),形成陡峭且受控的佈植輪廓。EPM 也能去除射束線零件產生的微粒,使晶圓與汙染隔離。

據廠商資料,它是唯一能以獨家閉迴路控制量測並修正射束角度的高電流機,可高精度且高再現性地控制零度佈植與大傾角佈植的入射角。另有加入極低溫佈植功能的 Trident Crion 配置,用於損傷工程與材料改質。

主要規格

類別高電流離子佈植機(單晶圓式)
射束方式雙磁鐵帶狀射束
主要機構能量純度模組(EPM)
控制項目能量汙染・均勻性・佈植角度・劑量率
主要用途先進節點的高電流佈植

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

雙磁鐵帶狀射束+能量純度模組(EPM)
高精度控制能量汙染・均勻性・佈植角度・劑量率
以閉迴路控制量測・修正射束角度
極低溫佈植的 Trident Crion 配置

主要用途

  • 先進邏輯・記憶體・晶圓代工的高電流佈植(源極・汲極等)
  • 以極低溫佈植進行損傷控制・材料改質

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

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資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials VIISta Trident