TWINSCAN NXT:1980Fi 是艾司摩爾（ASML）的雙載台 ArF 浸潤式曝光機。用於在先進節點與成熟節點中，描繪位於最敏感電晶體層正上方的次關鍵層（mid-critical 層）。
專為希望以更快的曝光與更高的產能、以具成本效益方式營運的客戶而設計。解析度 38nm，機台間匹配疊對 2.5nm，產能為每小時 330 片。
透過最新 NXT 平台所導入的結構改良，可在不犧牲疊對與解析度的情況下以極高速運作。生產力提升的主要因素是更快的載台。
TWINSCAN NXT:1980Fi的特點與規格
艾司摩爾（ASML）・DUV 曝光機
以每小時 330 片描繪次關鍵層（mid-critical 層）的 ArF 浸潤式曝光機。解析度 38nm。
產品概要
主要規格
| 光源 | ArF 浸潤式（193nm） |
|---|---|
| 解析度 | 38 nm |
| 性能 | 機台間匹配疊對 2.5nm・每小時 330 片 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
用於次關鍵層
解析度 38nm
每小時 330 片
主要用途
- 先進・成熟節點的次關鍵層
製造商與在台據點
在台據點
- 台灣總部（新竹）：2003 年成立
- 林口據點・新廠區（新北市林口區）：客戶支援與工廠；林口工一產業園區新廠是在台最大投資
- 台中・台南據點（台中・台南）：客戶支援據點，台南另設工廠
所屬設備分類
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