最後更新:2026年10月23日DUV 曝光機

TWINSCAN XT:860M的特點與規格

艾司摩爾(ASML)・DUV 曝光機

用於 110nm 以下 300mm 量產的高生產力 KrF 曝光機。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

TWINSCAN XT:860M 是艾司摩爾(ASML)的高生產力雙載台 KrF 曝光機。採用最先進的光學系統,專為以 110nm 以下解析度量產 300mm 晶圓而設計。

結合可變 NA 0.55~0.80 的 Carl Zeiss Starlith 860+ 4 倍縮小鏡頭,以及 AERIAL II 與選配的 QUASAR XL 照明技術,將量產實績豐富的 KrF 技術擴展到 110nm 的應用。

將窄頻化的 40W KrF 雷射與頻率控制,結合光學系統的高穿透率,獲得高生產產能。

主要規格

光源KrF(248nm・40W 雷射)
投影光學系統可變 NA 0.55~0.80(Carl Zeiss Starlith 860+)
適用晶圓尺寸300 mm

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

110nm 以下的 KrF
可變 NA 0.55~0.80
雙載台

主要用途

  • 300mm 的 KrF 量產

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹):2003 年成立
  • 林口據點・新廠區(新北市林口區):客戶支援與工廠;林口工一產業園區新廠是在台最大投資
  • 台中・台南據點(台中・台南):客戶支援據點,台南另設工廠

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資料來源

  1. 艾司摩爾(ASML)官方產品頁面:ASML TWINSCAN XT:860M