TWINSCAN XT:860M 是艾司摩爾(ASML)的高生產力雙載台 KrF 曝光機。採用最先進的光學系統,專為以 110nm 以下解析度量產 300mm 晶圓而設計。
結合可變 NA 0.55~0.80 的 Carl Zeiss Starlith 860+ 4 倍縮小鏡頭,以及 AERIAL II 與選配的 QUASAR XL 照明技術,將量產實績豐富的 KrF 技術擴展到 110nm 的應用。
將窄頻化的 40W KrF 雷射與頻率控制,結合光學系統的高穿透率,獲得高生產產能。
用於 110nm 以下 300mm 量產的高生產力 KrF 曝光機。
TWINSCAN XT:860M 是艾司摩爾(ASML)的高生產力雙載台 KrF 曝光機。採用最先進的光學系統,專為以 110nm 以下解析度量產 300mm 晶圓而設計。
結合可變 NA 0.55~0.80 的 Carl Zeiss Starlith 860+ 4 倍縮小鏡頭,以及 AERIAL II 與選配的 QUASAR XL 照明技術,將量產實績豐富的 KrF 技術擴展到 110nm 的應用。
將窄頻化的 40W KrF 雷射與頻率控制,結合光學系統的高穿透率,獲得高生產產能。
| 光源 | KrF(248nm・40W 雷射) |
|---|---|
| 投影光學系統 | 可變 NA 0.55~0.80(Carl Zeiss Starlith 860+) |
| 適用晶圓尺寸 | 300 mm |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。