最後更新:2026年10月23日DUV 曝光機

TWINSCAN NXT:1470的特點與規格

艾司摩爾(ASML)・DUV 曝光機

NXT 平台首款乾式 ArF 曝光機。是首台每小時超過 300 片的曝光機。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

TWINSCAN NXT:1470 是艾司摩爾(ASML)的 193nm 步進掃描式曝光機。是首台建構於高生產力・高精度 NXT 平台上的「乾式」曝光機。

作為乾式設備首度達成產品上疊對未滿 4.5nm,也是所有曝光機中首台處理能力超過每小時 300 片的機種。

以優異的疊對與產能降低每 1 次曝光的成本,在相同的微影單元面積下可多生產最多 50% 的晶圓。也將延伸到今後 KrF 的 NXT 設備,在提升機台間匹配的同時降低晶片製造成本。

主要規格

光源ArF 乾式(193nm)
疊對產品上未滿 4.5nm(乾式機首度達成)
產能每小時超過 300 片

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

NXT 首款乾式 ArF
每小時超過 300 片
疊對未滿 4.5nm

主要用途

  • ArF 乾式層的量產

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹):2003 年成立
  • 林口據點・新廠區(新北市林口區):客戶支援與工廠;林口工一產業園區新廠是在台最大投資
  • 台中・台南據點(台中・台南):客戶支援據點,台南另設工廠

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資料來源

  1. 艾司摩爾(ASML)官方產品頁面:ASML TWINSCAN NXT:1470