DUV 曝光機是什麼

DUV 曝光機（Deep Ultraviolet Lithography）是以 ArF 準分子雷射（193nm）或 KrF 準分子雷射（248nm）為光源的曝光設備。ArF 浸潤式曝光在鏡頭與晶圓之間填充純水（折射率 1.44），提高等效 NA，實現 193nm÷1.44≒134nm 的等效波長。再結合多重曝光技術（SADP・SAQP・LELE），可支援到 10nm 等級的節點。DUV 比 EUV 便宜且成熟度高，即使在先進節點，部分層仍持續使用 DUV。

重點整理

以 ArF（193nm）・KrF（248nm）雷射為光源的成熟曝光技術
ArF 浸潤式曝光（浸潤式 NA 最高 1.35）大幅提升等效解析度
結合 SADP/SAQP 等多重圖案化，可支援 10nm 等級節點
成本低於 EUV、產能高，在廣泛節點持續採用
艾司摩爾・尼康・佳能為主要廠商（與 EUV 不同，存在競爭環境）

常見問題

什麼是 DUV 曝光機？
DUV（Deep Ultraviolet）曝光機是以 ArF 準分子雷射（193nm）或 KrF 雷射（248nm）為光源的曝光設備。結合浸潤式曝光與多重圖案化技術，目前仍廣泛用於 28nm 以下節點的製造。
什麼是 ArF 浸潤式曝光？
ArF 浸潤式曝光（ArF Immersion）是在鏡頭與晶圓之間填充超純水（折射率約 1.44），提高鏡頭的等效數值孔徑（NA）以提升解析度的技術。與乾式 ArF 相比，解析度約提升 44%，用於 10～30nm 節點的圖案形成。
DUV 曝光機的主要廠商有哪些？
艾司摩爾（ASML，荷蘭）市占率最大，其次是尼康（Nikon，日本）、佳能（Canon，日本），這 3 家為主要廠商。與 EUV 不同，並非艾司摩爾獨占，而是尼康・佳能參與競爭的市場結構。

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