艾司摩爾（ASML）的 ArF 浸潤式 DUV 曝光機。針對與 EUV 設備之間的疊對（交叉匹配）進行改良，提升了單機與機台間的疊對精度。
目錄5 項
- 產品概要
- 主要規格
- 主要特點
- 製造商與在台據點
- 資料來源
產品概要
TWINSCAN NXT:2100i 是艾司摩爾（ASML）的 ArF 浸潤式 DUV 曝光機。採用在晶圓與投影鏡頭之間充滿水的浸潤方式，提高 ArF（193nm）光的解析能力。配備 2 個晶圓載台的雙載台架構，可同時進行量測與曝光。
先進晶圓廠會將 EUV 與 DUV 曝光機分別用於同一產品的不同層，因此兩者之間的疊對（交叉匹配）十分重要。NXT:2100i 搭載新的鏡頭畸變調整器（manipulator），支援 DUV 與 EUV 的交叉匹配，並將對準量測從 4 色增加到 12 色。
搭配強化的光罩熱調節與新的鏡頭量測用整合感測器單元，單機疊對精度最多改善 10%（0.9nm），機台間疊對精度改善 13%（1.3nm）。用於記憶體與邏輯的量產。
主要規格
| 光源 | ArF 浸潤式（193 nm） |
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| 載台 | 雙載台 |
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| 疊對精度 | 單機 0.9 nm・機台間 1.3 nm（較前一機種改善 10%／13%） |
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| 適用晶圓尺寸 | 300 mm |
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| 主要用途 | 先進記憶體・邏輯（與 EUV 混用的製程） |
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規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要用途
- 先進記憶體・邏輯的關鍵層
- 與 EUV 混用製程中的 DUV 層
製造商與在台據點
在台據點
- 台灣總部（新竹）：2003 年成立
- 林口據點・新廠區（新北市林口區）：客戶支援與工廠；林口工一產業園區新廠是在台最大投資
- 台中・台南據點（台中・台南）：客戶支援據點，台南另設工廠