可同時用於 200mm 與 300mm 量產的 KrF 曝光機。支援 110nm 以下。
目錄5 項
- 產品概要
- 主要規格
- 主要特點
- 製造商與在台據點
- 資料來源
產品概要
TWINSCAN XT:860N 是艾司摩爾（ASML）的高生產力雙載台 KrF 曝光機。專為以 110nm 以下解析度量產 200mm 與 300mm 晶圓而設計。
結合可變 NA 0.55～0.80 的 ZEISS Starlith 860+ 縮小鏡頭，以及 AERIAL II 與選配的 QUASAR XL 照明技術，將量產實績豐富的 KrF 技術擴展到 110nm 的應用。
透過窄頻化的 40W・50W・60W KrF 雷射與光學系統的高穿透率，以低營運成本達到 300mm 每小時 260 片（200mm 為 275 片）的生產產能。
主要規格
| 光源 | KrF（248nm・40／50／60W 雷射） |
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| 投影光學系統 | 可變 NA 0.55～0.80（ZEISS Starlith 860+） |
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| 產能 | 每小時 260 片（300mm）・275 片（200mm） |
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規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
製造商與在台據點
在台據點
- 台灣總部（新竹）：2003 年成立
- 林口據點・新廠區（新北市林口區）：客戶支援與工廠；林口工一產業園區新廠是在台最大投資
- 台中・台南據點（台中・台南）：客戶支援據點，台南另設工廠