TWINSCAN XT:1460K 是艾司摩爾(ASML)的 193nm 步進掃描式曝光機。是為了以 65nm 解析度量產 300mm 晶圓而設計的高生產力雙載台 ArF 曝光機。
搭載可變 NA 0.93 的 193nm 投影鏡頭與先進的鏡頭調整器(manipulator)。
透過 TWINSCAN 平台的雙晶圓載台,同時進行 1 片晶圓的曝光與下一片晶圓的對準,幾乎不需等待即可連續描繪圖案。具備優異的 CD 均勻性、業界領先的疊對,以及長期的性能穩定性。標準配備 45W 的 ArF 雷射。
以 65nm 解析度量產 300mm 晶圓的高生產力乾式 ArF 曝光機。
TWINSCAN XT:1460K 是艾司摩爾(ASML)的 193nm 步進掃描式曝光機。是為了以 65nm 解析度量產 300mm 晶圓而設計的高生產力雙載台 ArF 曝光機。
搭載可變 NA 0.93 的 193nm 投影鏡頭與先進的鏡頭調整器(manipulator)。
透過 TWINSCAN 平台的雙晶圓載台,同時進行 1 片晶圓的曝光與下一片晶圓的對準,幾乎不需等待即可連續描繪圖案。具備優異的 CD 均勻性、業界領先的疊對,以及長期的性能穩定性。標準配備 45W 的 ArF 雷射。
| 光源 | ArF 乾式(193nm・45W 雷射) |
|---|---|
| 投影光學系統 | 可變 NA 0.93 |
| 解析度 | 65 nm |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。