最後更新:2026年10月23日DUV 曝光機

TWINSCAN XT:1460K的特點與規格

艾司摩爾(ASML)・DUV 曝光機

以 65nm 解析度量產 300mm 晶圓的高生產力乾式 ArF 曝光機。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

TWINSCAN XT:1460K 是艾司摩爾(ASML)的 193nm 步進掃描式曝光機。是為了以 65nm 解析度量產 300mm 晶圓而設計的高生產力雙載台 ArF 曝光機。

搭載可變 NA 0.93 的 193nm 投影鏡頭與先進的鏡頭調整器(manipulator)。

透過 TWINSCAN 平台的雙晶圓載台,同時進行 1 片晶圓的曝光與下一片晶圓的對準,幾乎不需等待即可連續描繪圖案。具備優異的 CD 均勻性、業界領先的疊對,以及長期的性能穩定性。標準配備 45W 的 ArF 雷射。

主要規格

光源ArF 乾式(193nm・45W 雷射)
投影光學系統可變 NA 0.93
解析度65 nm

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

可變 NA 0.93
雙晶圓載台
65nm 解析度

主要用途

  • 65nm 世代的 ArF 乾式曝光

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹):2003 年成立
  • 林口據點・新廠區(新北市林口區):客戶支援與工廠;林口工一產業園區新廠是在台最大投資
  • 台中・台南據點(台中・台南):客戶支援據點,台南另設工廠

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資料來源

  1. 艾司摩爾(ASML)官方產品頁面:ASML TWINSCAN XT:1460K