TWINSCAN NXT:2150i 是艾司摩爾（ASML）的雙載台 ArF 浸潤式曝光機，為 NXT:2100i 的後繼機種。以較少的製程調整工夫，在高生產力下提供疊對與成像性能。
產品上疊對（某一層能多精準地疊在前一層之上）改善 15%，成像也有所提升，產能提高 5%。用於先進記憶體與邏輯關鍵層的量產，以及未來節點的初期開發。
疊對改善的關鍵在於新的鑽石晶圓載盤。透過突破性的材料塗層，即使不加維護也能維持最佳的疊對性能。穩定性提升後，可用較少的介入得到相同或更好的疊對，進而降低成本。
TWINSCAN NXT:2150i的特點與規格
艾司摩爾（ASML）・DUV 曝光機
NXT:2100i 後繼的 ArF 浸潤式曝光機。產品上疊對改善 15%，產能提高 5%。
產品概要
主要規格
| 光源 | ArF 浸潤式（193nm） |
|---|---|
| 改善 | 產品上疊對改善 15%・產能提升 5% |
| 特點 | 鑽石晶圓載盤 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
疊對改善 15%
產能提升 5%
鑽石晶圓載盤
主要用途
- 先進記憶體・邏輯的關鍵層
製造商與在台據點
在台據點
- 台灣總部（新竹）：2003 年成立
- 林口據點・新廠區（新北市林口區）：客戶支援與工廠；林口工一產業園區新廠是在台最大投資
- 台中・台南據點（台中・台南）：客戶支援據點，台南另設工廠
所屬設備分類
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