TWINSCAN NXT:2000i 是艾司摩爾（ASML）的高生產力雙載台浸潤式曝光機。專為先進節點 300mm 晶圓的量產而設計。
搭載 NA 1.35 的同軸折反射式鏡頭，並導入改善疊對、焦點控制與機台間匹配的硬體創新。
設計上考量與 EUV 的混搭使用（mix & match），模組化設計可從前一世代升級，也可因應未來的升級。在減少缺陷的同時具備高生產力，最高紀錄為 1 天 4,600 片。
TWINSCAN NXT:2000i的特點與規格
艾司摩爾（ASML）・DUV 曝光機
用於先進邏輯・DRAM 量產的 ArF 浸潤式曝光機。設計上考量與 EUV 的混搭使用（mix & match）。
產品概要
主要規格
| 光源 | ArF 浸潤式（193nm） |
|---|---|
| 投影光學系統 | NA 1.35（同軸折反射式鏡頭） |
| 生產力 | 最高 1 天 4,600 片 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
NA 1.35 的折反射式鏡頭
與 EUV 混搭使用
最高 1 天 4,600 片
主要用途
- 先進邏輯・DRAM 的浸潤式曝光
製造商與在台據點
在台據點
- 台灣總部（新竹）：2003 年成立
- 林口據點・新廠區（新北市林口區）：客戶支援與工廠；林口工一產業園區新廠是在台最大投資
- 台中・台南據點（台中・台南）：客戶支援據點，台南另設工廠
所屬設備分類
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