TWINSCAN NXT:2050i 是艾司摩爾（ASML）的高生產力雙載台浸潤式曝光機。建構於可長期沿用的 NXT4 平台上，推升疊對的極限，作為浸潤式曝光機具有無可比擬的生產力。
結合最先進的浸潤式曝光機設計，以及目前半導體業界最高數值孔徑（NA）1.35 的先進鏡頭。
以高生產力與前所未有的疊對性能滿足多重圖案化的需求，以具成本效益的方式製造先進邏輯與 DRAM 節點的 300mm 晶圓。
TWINSCAN NXT:2050i的特點與規格
艾司摩爾（ASML）・DUV 曝光機
NXT4 平台的 ArF 浸潤式曝光機。採用業界最高 NA 1.35 的鏡頭，用於先進邏輯・DRAM 的多重圖案化。
產品概要
主要規格
| 光源 | ArF 浸潤式（193nm） |
|---|---|
| 投影光學系統 | NA 1.35 |
| 平台 | NXT4 |
規格依廠商公開資料整理，實際規格與選配請以廠商資料為準。
主要特點
NXT4 平台
NA 1.35
支援多重圖案化
主要用途
- 先進邏輯・DRAM 的浸潤式曝光
製造商與在台據點
在台據點
- 台灣總部（新竹）：2003 年成立
- 林口據點・新廠區（新北市林口區）：客戶支援與工廠；林口工一產業園區新廠是在台最大投資
- 台中・台南據點（台中・台南）：客戶支援據點，台南另設工廠
所屬設備分類
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