TWINSCAN XT:1060K 是艾司摩爾(ASML)最先進的 KrF(氟化氪)雷射「乾式」曝光機。為 248nm 步進掃描式的雙載台設備,具備業界最高的 NA 與生產力。
延長關鍵 KrF 技術的使用壽命,在活用成熟 KrF 製程的同時降低每層成本。
適用於 2X nm 以後技術節點中記憶體與邏輯的金屬、通孔、離子佈植層。透過與其他 TWINSCAN KrF 設備的成像匹配,以及與 ArF・KrF 設備優異的疊對匹配,可順利導入量產環境。
艾司摩爾(ASML)最先進的 KrF 乾式曝光機。具備業界最高的 NA 與生產力。
TWINSCAN XT:1060K 是艾司摩爾(ASML)最先進的 KrF(氟化氪)雷射「乾式」曝光機。為 248nm 步進掃描式的雙載台設備,具備業界最高的 NA 與生產力。
延長關鍵 KrF 技術的使用壽命,在活用成熟 KrF 製程的同時降低每層成本。
適用於 2X nm 以後技術節點中記憶體與邏輯的金屬、通孔、離子佈植層。透過與其他 TWINSCAN KrF 設備的成像匹配,以及與 ArF・KrF 設備優異的疊對匹配,可順利導入量產環境。
| 光源 | KrF(248nm・40W 雷射) |
|---|---|
| 特點 | KrF 中業界最高的 NA 與生產力 |
| 主要用途 | 2X nm 以後的金屬・通孔・佈植層 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。