最後更新:2026年10月23日DUV 曝光機

TWINSCAN XT:1060K的特點與規格

艾司摩爾(ASML)・DUV 曝光機

艾司摩爾(ASML)最先進的 KrF 乾式曝光機。具備業界最高的 NA 與生產力。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

TWINSCAN XT:1060K 是艾司摩爾(ASML)最先進的 KrF(氟化氪)雷射「乾式」曝光機。為 248nm 步進掃描式的雙載台設備,具備業界最高的 NA 與生產力。

延長關鍵 KrF 技術的使用壽命,在活用成熟 KrF 製程的同時降低每層成本。

適用於 2X nm 以後技術節點中記憶體與邏輯的金屬、通孔、離子佈植層。透過與其他 TWINSCAN KrF 設備的成像匹配,以及與 ArF・KrF 設備優異的疊對匹配,可順利導入量產環境。

主要規格

光源KrF(248nm・40W 雷射)
特點KrF 中業界最高的 NA 與生產力
主要用途2X nm 以後的金屬・通孔・佈植層

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

KrF 中業界最高的 NA
與 ArF・KrF 的疊對匹配
40W KrF 雷射

主要用途

  • 金屬・通孔・佈植層

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹):2003 年成立
  • 林口據點・新廠區(新北市林口區):客戶支援與工廠;林口工一產業園區新廠是在台最大投資
  • 台中・台南據點(台中・台南):客戶支援據點,台南另設工廠

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資料來源

  1. 艾司摩爾(ASML)官方產品頁面:ASML TWINSCAN XT:1060K