最後更新:2026年10月23日DUV 曝光機

TWINSCAN NXT:870B的特點與規格

艾司摩爾(ASML)・DUV 曝光機

業界首台達成每小時 400 片的 KrF 乾式曝光機。為 NXT:870 的後繼機種,產能提高 20%。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

TWINSCAN NXT:870B 是艾司摩爾(ASML)的雙載台 KrF 乾式曝光機。業界首度以每小時 400 片的速度曝光 300mm 晶圓。

為 NXT:870 的後繼機種,透過光學系統與機電系統的改良,產能提高 20%,同時維持疊對與成像性能。降低每次曝光的成本,使晶圓廠空間的價值最大化。

KrF 曝光機是為眾多市場製造晶片的業界主力機台。與前一機種相同,在與 ArF 乾式及浸潤式相同的 NXT 平台上使用 KrF 技術,因此與這些設備所描繪的層之間對位良好,可提升疊對。

主要規格

光源KrF 乾式(248nm)
產能每小時 400 片(300mm)
改善較 NXT:870 提升 20%

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

每小時 400 片(業界首創)
較 NXT:870 提升 20%
與 ArF 相同的 NXT 平台

主要用途

  • KrF 層的大量生產

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹):2003 年成立
  • 林口據點・新廠區(新北市林口區):客戶支援與工廠;林口工一產業園區新廠是在台最大投資
  • 台中・台南據點(台中・台南):客戶支援據點,台南另設工廠

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資料來源

  1. 艾司摩爾(ASML)官方產品頁面:ASML TWINSCAN NXT:870B