M-600/6000 系列是日立高新技術(Hitachi High-Tech)的導體蝕刻設備。可對應用於數位行動裝置、白色家電、汽車、鐵路等的功率半導體矽加工。
除了微波 ECR 方式的高密度電漿之外,藉由使用低溫蝕刻技術與 TM(Time Modulation)偏壓技術,可採用沉積性低的潔淨製程,實現平滑的側壁形狀與高量產性。
對應 150mm 與 200mm 晶圓,最多可搭載 2 個蝕刻腔體與 2 個後處理腔體。
針對功率半導體矽加工的蝕刻設備。對應 150mm・200mm,以低溫蝕刻與 TM 偏壓形成平滑的側壁。
M-600/6000 系列是日立高新技術(Hitachi High-Tech)的導體蝕刻設備。可對應用於數位行動裝置、白色家電、汽車、鐵路等的功率半導體矽加工。
除了微波 ECR 方式的高密度電漿之外,藉由使用低溫蝕刻技術與 TM(Time Modulation)偏壓技術,可採用沉積性低的潔淨製程,實現平滑的側壁形狀與高量產性。
對應 150mm 與 200mm 晶圓,最多可搭載 2 個蝕刻腔體與 2 個後處理腔體。
| 方式 | 微波 ECR 電漿・低溫蝕刻・TM 偏壓 |
|---|---|
| 對應晶圓尺寸 | 150/200 mm |
| 設備組成 | 最多 2 個蝕刻+2 個後處理腔體 |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
日立高新技術(Hitachi High-Tech)(總部:日本)