最後更新:2026年10月23日缺陷覆檢 SEM(Review SEM)

Micro-SR的特點與規格

科磊(KLA)・缺陷覆檢 SEM(Review SEM)

光學式缺陷再檢測・量測設備。對晶圓表面與邊緣缺陷成像,也量測 TSV・凸塊・RDL 的 XY 與高度。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

Micro-SR 是科磊(KLA)的光學式缺陷再檢測・量測設備。支援邏輯、記憶體、化合物半導體元件與先進封裝的量產。

以高解析度與多種照明模式,對晶圓表面或邊緣發現的缺陷進行高品質成像與判定。影像擷取快速,可對所有有圖案・無圖案檢測設備並行進行自動缺陷再檢測。

也支援 TSV、凸塊、RDL 等的 X・Y・高度量測。可處理多種晶圓尺寸、不同厚度的晶圓,以及 Si・SiC・GaN・GaAs・玻璃・藍寶石等基板。在 CIRCL 中作為晶圓表面的再檢測・量測模組使用。

主要規格

方式光學式缺陷再檢測・量測
適用晶圓尺寸150/200 mm・200/300 mm・300 mm
量測TSV・凸塊・RDL 的 X・Y・高度

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

高解析度・多種照明模式
自動缺陷再檢測
TSV・凸塊・RDL 的高度量測
支援多種基板

主要用途

  • 缺陷再檢測・出貨品質管理
  • 先進封裝的量測

製造商與在台據點

在台據點
  • 台灣總部(新竹縣竹北市):台元科技園區,2025 年啟用新辦公室與訓練中心
  • 各地據點(新竹・桃園・林口・台中・台南・高雄):就近支援各科學園區的客戶

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資料來源

  1. 科磊(KLA)官方產品頁面:KLA