最後更新:2026年10月23日缺陷覆檢 SEM(Review SEM)

SEMVision G7 Defect Analysis的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・缺陷覆檢 SEM(Review SEM)

具備自動缺陷再檢測(ADR)與自動缺陷分類(ADC)的缺陷再檢測 SEM。也用於車用・RF・功率・化合物半導體。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

SEMVision G7 系列是應用材料的電子束缺陷再檢測設備。缺陷的再檢測・分類・分析,是監控・管理各製造步驟品質不可或缺的工作。

隨著車用、IoT、RF、光子學、功率、先進封裝的成長,晶片產量增加,化合物半導體等新型晶圓也開始使用。因應這些變化,需要能快速找出關鍵缺陷的成像性能。

以已成為業界標準的獨家 e-lluminator 技術、高解析度,以及進化的自動缺陷再檢測(ADR)・自動缺陷分類(ADC),確實找出根本原因,實現精密的統計製程管制。

主要規格

方式電子束缺陷再檢測(e-lluminator 技術)
功能自動缺陷再檢測(ADR)・自動缺陷分類(ADC)
對象車用・IoT・RF・光子學・功率・先進封裝

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

e-lluminator 技術
自動缺陷再檢測(ADR)
自動缺陷分類(ADC)

主要用途

  • 車用・功率・RF 元件的缺陷再檢測
  • 化合物半導體的製程管理

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

所屬設備分類

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資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials SEMVision G7