最後更新:2026年10月23日缺陷覆檢 SEM(Review SEM)

SEMVision H20的特點與規格

應用材料(Applied Materials)・缺陷覆檢 SEM(Review SEM)

結合第2代冷場發射(CFE)電子束與 AI 影像辨識的缺陷再檢測系統。2025年發表。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

SEMVision H20 是應用材料的電子束缺陷再檢測(defect review)系統。在最先進節點,光學檢測難以區分製程變異的雜訊與缺陷,容易產生誤判多而密集的缺陷圖,送往電子束再檢測的缺陷候選增加了 10~100 倍。

H20 使用冷場發射(CFE)電子束技術,以次奈米解析度觀察最微小的埋藏缺陷。第2代 CFE 技術在維持高靈敏度與解析度的同時提高成像速度,能以更短時間收集相同的資訊量。

整合深度學習 AI 功能,自動從擾亂缺陷(nuisance)與雜訊中擷取關鍵缺陷。AI 模型可使用客戶自己的缺陷影像或設計模擬進行訓練,提高分類準確度。SEMVision 是使用最廣泛的電子束再檢測設備系列。

主要規格

電子源冷場發射(CFE・第2代)
特點次奈米解析度・分類速度最高為舊機型的 3 倍
主要用途2nm 邏輯・DRAM・3D NAND 的埋藏缺陷分析

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

第2代冷場發射(CFE)電子束
以次奈米解析度觀察埋藏缺陷
以深度學習 AI 自動擷取關鍵缺陷

主要用途

  • 先進節點的缺陷再檢測・分類
  • 分析光學檢測所檢出的大量缺陷候選

製造商與在台據點

在台據點
  • 新竹據點(新竹科學園區):1996 年進駐,技術研發中心
  • 台南據點(台南):製造中心與顯示器設備製造研發中心
  • 林口・台中據點(林口・台中):營運據點

所屬設備分類

相關用語

同分類的其他機型

應用材料(Applied Materials)的其他機型

資料來源

  1. 應用材料(Applied Materials)官方產品頁面:Applied Materials SEMVision H20