NSR-S625E 是尼康針對中度關鍵層的 ArF 浸潤式掃描式曝光機。承襲已有實績的 Streamlign Platform，專為先進半導體結構的生產而設計。
產能比前代機型 NSR-S622D 提高約 1.3 倍，運轉穩定性也大幅改善。此外搭載高性能對準站「inline Alignment Station（iAS）」，在不降低產能的情況下對所有 shot 進行多點對準，提高疊對精度。
解析度 38nm 以下，NA 1.35，縮小倍率 1:4，最大曝光範圍 26 × 33mm。同機型間的疊對精度（MMO）為 2.5nm 以下，產能為每小時 280 片以上（96 shot）。