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CONFERENCE

セラミックス協会年会 2027(日本セラミックス協会 年会)

日本セラミックス協会が主催する、セラミックスを扱う会議。

01開催概要


正式名称
日本セラミックス協会年会 / The Ceramic Society of Japan Annual Meeting
主催
日本セラミックス協会
次回の会期
2027年3月8日〜3月10日(水)(開幕まであと131日)
開催地
京都・京都大学 吉田キャンパス
例年の開催
3月頃・日本
分野
材料・物性
格付け
国内の学会日本の日本セラミックス協会が主催する会議のため、国内の学会としています。格付けの決め方
公式サイト
nenkai2027.ceramic.or.jp(2026/10/24 確認)
会期をカレンダーに追加(.ics)

02投稿の日程


募集要項で発表されている締切と通知日です。

日付内容状況
2026年12月8日研究発表申込締切あと41日

03セラミックス協会年会はどんな学会か


セラミックス協会年会は、日本セラミックス協会が主催する、セラミックスを扱う会議です。2027年は3月8日から3月10日まで、京都で開かれます。会場は京都大学 吉田キャンパスです。

誘電体・圧電体・半導体セラミックス、セラミックスの合成とプロセスの研究が発表される日本セラミックス協会の年会です。

04注目の技術


セラミックス協会年会でよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • High-k誘電体

    High-kゲート誘電体(High-k Gate Dielectric)は、従来のシリコン酸化膜(SiO₂、比誘電率k≈3.9)に代わり、より高い誘電率(k>10)を持つ材料をゲート絶縁膜として使用する技術です。

  • 圧電効果(ピエゾ効果)

    圧電効果とは、ある種の結晶に力を加えると電圧が現れ、逆に電圧をかけると変形する性質のことです。

  • 強誘電体ハフニウム酸化物(HZO)

    強誘電体ハフニウム酸化物(Ferroelectric Hafnium Oxide)とは、酸化ハフニウム(HfO₂)に酸化ジルコニウム(ZrO₂)などをドープすることで生じる強誘電性を持つ薄膜材料で、一般にHZO(Hafnium Zirconium Oxide)と呼ばれます。

05同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。