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CONFERENCE

CPM研究会(電子情報通信学会 電子部品・材料研究会)

電子情報通信学会が主催する、電子部品と電子材料を扱う会議。

01開催概要


正式名称
IEICE Technical Committee on Electronic Components and Materials
主催
電子情報通信学会
次回の会期
未発表(例年11月頃)
開催地
日本
例年の開催
11月頃・日本
分野
デバイス・プロセス/材料・物性
格付け
国内の学会日本の電子情報通信学会が主催する会議のため、国内の学会としています。格付けの決め方
公式サイト
www.ieice.org(2026/10/24 確認)

02CPM研究会はどんな学会か


CPM研究会は、電子情報通信学会が主催する、電子部品と電子材料を扱う会議です。年に数回、各地で研究会を開く。11月は窒化物半導体の光・電子デバイスがテーマの回が開かれる。例年11月ごろに開かれます。

薄膜・化合物半導体・光デバイス・実装などをテーマに、年に数回各地で開かれる研究会です。

03注目の技術


CPM研究会でよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • 化合物半導体

    化合物半導体とは、周期表の2種類以上の元素を組み合わせて作られた半導体材料の総称です。

  • GaAs(ヒ化ガリウム)

    GaAs(ガリウムヒ素、ヒ化ガリウム)とは、ガリウム(Ga)とヒ素(As)からなる13-15族(III-V族)化合物半導体です。

  • InP(リン化インジウム)

    InP(インジウムリン、リン化インジウム)とは、インジウム(In)とリン(P)からなるIII-V族化合物半導体です。

  • MOCVD

    MOCVD(Metal-Organic Chemical Vapor Deposition/有機金属化学気相成長)は、有機金属化合物(トリメチルガリウムTMGa、トリメチルアルミニウムTMAl、ジメチルヒドラジンなど)と水素化物(NH₃、AsH₃、PH₃など)を原料ガスとして使用し、基板(ウェハ)上にIII-V族化合物半導体(GaN・GaAs・InP・AlGaInPなど)の高品質なエピタキシャル薄膜を成長させるCVD技術の一種です。

04同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。