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CONFERENCE

GEC 2026(気体エレクトロニクス会議)

米国物理学会(APS)が主催する、低温プラズマと気体放電を扱う国際会議。

01開催概要


正式名称
Gaseous Electronics Conference
主催
米国物理学会(APS)
次回の会期
2026年11月2日〜11月6日(金)(開幕まであと5日)
開催地
シカゴ(米国)・Hilton Chicago
例年の開催
11月頃・米国
分野
リソグラフィ・配線・量産/材料・物性
格付け
主要国際会議米国物理学会(APS)が主催し、低温プラズマと気体放電の分野で継続して開かれている国際会議のため、主要国際会議としています。格付けの決め方
公式サイト
www.apsgec.org(2026/10/24 確認)
会期をカレンダーに追加(.ics)

02GECはどんな学会か


GECは、米国物理学会(APS)が主催する、低温プラズマと気体放電を扱う国際会議です。2026年は11月2日から11月6日まで、シカゴ(米国)で開かれます。会場はHilton Chicagoです。

エッチング・成膜に使うプラズマの物理・化学・診断・シミュレーションの研究が発表される、プラズマ科学の主要な会議です。

03注目の技術


GECでよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • プラズマ(半導体製造)

    プラズマ(Plasma)とは、気体が高エネルギー状態に達して電子と陽イオンに電離した「物質の第4の状態」であり、半導体製造においてエッチング・成膜・クリーニング・表面改質など多くの工程の基盤技術となっています。

  • プラズマエッチング

    プラズマエッチング(Plasma Etching)は、真空チャンバー内でプラズマを生成し、そのプラズマ中の活性種(ラジカル・イオン)によってウェハ表面の材料を除去するエッチング手法の総称です。

  • ICP(誘導結合プラズマ)

    ICP(Inductively Coupled Plasma:誘導結合プラズマ)とは、コイル状のアンテナに高周波(RF)電力を印加することで磁場を誘導し、チャンバー内のガスを電離してプラズマを生成する方式です。

  • CCP(容量結合プラズマ)

    CCP(Capacitively Coupled Plasma:容量結合プラズマ)とは、平行平板状の上下2枚の電極間に高周波(RF)電力を印加し、電極間の電界でガスを電離してプラズマを生成する方式です。

04同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。