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CONFERENCE

IVC(国際真空会議)

IUVSTA(国際真空科学技術応用連合)が主催する、真空科学と表面・薄膜を扱う国際会議。

01開催概要


正式名称
International Vacuum Congress
主催
IUVSTA(国際真空科学技術応用連合)
次回の会期
未発表(例年9月頃)
開催地
各国持ち回り
例年の開催
9月頃・各国持ち回り
分野
材料・物性
格付け
専門の国際会議真空科学と表面・薄膜という特定のテーマに絞って開かれている国際会議のため、専門の国際会議としています。格付けの決め方
公式サイト
iuvsta.org(2026/10/24 確認)

02IVCはどんな学会か


IVCは、IUVSTA(国際真空科学技術応用連合)が主催する、真空科学と表面・薄膜を扱う国際会議です。約3年ごとに開催。第23回は2025年9月 シドニー(オーストラリア)。例年9月ごろに開かれます。

真空技術、表面科学、薄膜、プラズマの研究が発表される、約3年ごとに開かれる会議です。

03注目の技術


IVCでよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • CVD

    CVD(Chemical Vapor Deposition/化学気相成長)は、原料となる化学物質(前駆体ガス)をチャンバー内に導入し、熱・プラズマ・光などのエネルギーで化学反応を起こすことでウェハ表面に薄膜を堆積させる成膜技術の総称です。

  • PVD

    PVD(Physical Vapor Deposition/物理気相成長)は、蒸発・スパッタリングなどの物理的プロセスによって固体材料を気化し、ウェハ表面に薄膜を堆積させる成膜技術の総称です。

  • ALD

    ALD(Atomic Layer Deposition/原子層堆積)は、自己制限的な表面反応を利用して薄膜を少しずつ積み上げる成膜技術です。

  • スパッタリング

    スパッタリング(Sputtering)は、物理気相成長(PVD)の代表的手法の一つです。

  • エピタキシー(エピ成長)

    エピタキシー(Epitaxy)とは、結晶基板の上に、基板と同じ結晶構造・格子定数を持つ薄い単結晶薄膜(エピタキシャル層)を気相または液相から成長させる技術です。

04同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。