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CONFERENCE

ISPlasma(先進プラズマ科学と窒化物・ナノ材料への応用国際シンポジウム)

ISPlasma・IC-PLANTS 実行委員会が主催する、プラズマ科学と窒化物・ナノ材料への応用を扱う国際会議。

01開催概要


正式名称
International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials
主催
ISPlasma・IC-PLANTS 実行委員会
次回の会期
未発表(例年3月頃)
開催地
名古屋
例年の開催
3月頃・日本(名古屋)
分野
リソグラフィ・配線・量産/材料・物性
格付け
専門の国際会議プラズマ科学と窒化物・ナノ材料への応用という特定のテーマに絞って開かれている国際会議のため、専門の国際会議としています。格付けの決め方
公式サイト
www.isplasma.jp(2026/10/24 確認)

02ISPlasmaはどんな学会か


ISPlasmaは、ISPlasma・IC-PLANTS 実行委員会が主催する、プラズマ科学と窒化物・ナノ材料への応用を扱う国際会議です。2027年は名古屋。例年3月ごろに開かれます。

プラズマによるエッチング・成膜と、窒化物半導体・ナノ材料のプロセスの研究が発表される、名古屋で開かれる会議です。

03注目の技術


ISPlasmaでよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • プラズマ(半導体製造)

    プラズマ(Plasma)とは、気体が高エネルギー状態に達して電子と陽イオンに電離した「物質の第4の状態」であり、半導体製造においてエッチング・成膜・クリーニング・表面改質など多くの工程の基盤技術となっています。

  • プラズマエッチング

    プラズマエッチング(Plasma Etching)は、真空チャンバー内でプラズマを生成し、そのプラズマ中の活性種(ラジカル・イオン)によってウェハ表面の材料を除去するエッチング手法の総称です。

  • ICP(誘導結合プラズマ)

    ICP(Inductively Coupled Plasma:誘導結合プラズマ)とは、コイル状のアンテナに高周波(RF)電力を印加することで磁場を誘導し、チャンバー内のガスを電離してプラズマを生成する方式です。

  • CCP(容量結合プラズマ)

    CCP(Capacitively Coupled Plasma:容量結合プラズマ)とは、平行平板状の上下2枚の電極間に高周波(RF)電力を印加し、電極間の電界でガスを電離してプラズマを生成する方式です。

04同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。