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CONFERENCE

プラズマ・コンファレンス(プラズマ・コンファレンス)

応用物理学会・プラズマ・核融合学会 ほかが主催する、プラズマ科学を扱う会議。

01開催概要


正式名称
Plasma Conference / PLASMA2017
主催
応用物理学会・プラズマ・核融合学会 ほか
次回の会期
未発表(例年11月頃)
開催地
日本
例年の開催
11月頃・日本
分野
リソグラフィ・配線・量産/材料・物性
格付け
国内の学会日本の応用物理学会・プラズマ・核融合学会 ほかが主催する会議のため、国内の学会としています。格付けの決め方
公式サイト
www.jspf.or.jp(2026/10/24 確認)

02プラズマ・コンファレンスはどんな学会か


プラズマ・コンファレンスは、応用物理学会・プラズマ・核融合学会 ほかが主催する、プラズマ科学を扱う会議です。応用物理学会・プラズマ核融合学会などが数年おきに合同で開く講演会(直近の合同開催は2017年11月)。例年11月ごろに開かれます。

応用物理学会のプラズマエレクトロニクス分科会やプラズマ・核融合学会などが合同で開く講演会です。

03注目の技術


プラズマ・コンファレンスでよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • プラズマ(半導体製造)

    プラズマ(Plasma)とは、気体が高エネルギー状態に達して電子と陽イオンに電離した「物質の第4の状態」であり、半導体製造においてエッチング・成膜・クリーニング・表面改質など多くの工程の基盤技術となっています。

  • プラズマエッチング

    プラズマエッチング(Plasma Etching)は、真空チャンバー内でプラズマを生成し、そのプラズマ中の活性種(ラジカル・イオン)によってウェハ表面の材料を除去するエッチング手法の総称です。

  • ICP(誘導結合プラズマ)

    ICP(Inductively Coupled Plasma:誘導結合プラズマ)とは、コイル状のアンテナに高周波(RF)電力を印加することで磁場を誘導し、チャンバー内のガスを電離してプラズマを生成する方式です。

  • CCP(容量結合プラズマ)

    CCP(Capacitively Coupled Plasma:容量結合プラズマ)とは、平行平板状の上下2枚の電極間に高周波(RF)電力を印加し、電極間の電界でガスを電離してプラズマを生成する方式です。

04同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。