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CONFERENCE

AVS 2026(AVS国際シンポジウム)

AVS(米国真空学会)が主催する、真空・薄膜・表面・プロセスを扱う国際会議。

01開催概要


正式名称
AVS 72nd International Symposium & Exhibition
主催
AVS(米国真空学会)
次回の会期
2026年11月8日〜11月13日(金)(開幕まであと11日)
開催地
ピッツバーグ(米国)・David L. Lawrence Convention Center
例年の開催
11月頃・米国
分野
リソグラフィ・配線・量産/材料・物性
格付け
主要国際会議AVS(米国真空学会)が主催し、真空・薄膜・表面・プロセスの分野で継続して開かれている国際会議のため、主要国際会議としています。格付けの決め方
公式サイト
avs72.avs.org(2026/10/24 確認)
会期をカレンダーに追加(.ics)

02AVSはどんな学会か


AVSは、AVS(米国真空学会)が主催する、真空・薄膜・表面・プロセスを扱う国際会議です。2026年は11月8日から11月13日まで、ピッツバーグ(米国)で開かれます。会場はDavid L. Lawrence Convention Centerです。

薄膜形成、プラズマプロセス、原子層堆積・エッチング、表面分析など、半導体製造に関わる真空技術の発表が集まります。展示会も併設されます。

03注目の技術


AVSでよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • CVD

    CVD(Chemical Vapor Deposition/化学気相成長)は、原料となる化学物質(前駆体ガス)をチャンバー内に導入し、熱・プラズマ・光などのエネルギーで化学反応を起こすことでウェハ表面に薄膜を堆積させる成膜技術の総称です。

  • PVD

    PVD(Physical Vapor Deposition/物理気相成長)は、蒸発・スパッタリングなどの物理的プロセスによって固体材料を気化し、ウェハ表面に薄膜を堆積させる成膜技術の総称です。

  • ALD

    ALD(Atomic Layer Deposition/原子層堆積)は、自己制限的な表面反応を利用して薄膜を少しずつ積み上げる成膜技術です。

  • スパッタリング

    スパッタリング(Sputtering)は、物理気相成長(PVD)の代表的手法の一つです。

  • エピタキシー(エピ成長)

    エピタキシー(Epitaxy)とは、結晶基板の上に、基板と同じ結晶構造・格子定数を持つ薄い単結晶薄膜(エピタキシャル層)を気相または液相から成長させる技術です。

04同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。