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CONFERENCE

Cat-CVD研究会(Cat-CVD研究会)

Cat-CVD研究会が主催する、触媒化学気相堆積(Cat-CVD)を扱う会議。

01開催概要


正式名称
Cat-CVD研究会 / Cat-CVD Workshop
主催
Cat-CVD研究会
次回の会期
未発表(例年6月頃)
開催地
日本
例年の開催
6月頃・日本
分野
材料・物性
格付け
国内の学会日本のCat-CVD研究会が主催する会議のため、国内の学会としています。格付けの決め方
公式サイト
www.cat-cvd.jp(2026/10/24 確認)

02Cat-CVD研究会はどんな学会か


Cat-CVD研究会は、Cat-CVD研究会が主催する、触媒化学気相堆積(Cat-CVD)を扱う会議です。第23回は2026年6月。例年6月ごろに開かれます。

加熱した触媒体でガスを分解して薄膜を作るCat-CVDの、成膜技術と応用の研究が発表される研究会です。

03注目の技術


Cat-CVD研究会でよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • CVD

    CVD(Chemical Vapor Deposition/化学気相成長)は、原料となる化学物質(前駆体ガス)をチャンバー内に導入し、熱・プラズマ・光などのエネルギーで化学反応を起こすことでウェハ表面に薄膜を堆積させる成膜技術の総称です。

  • PVD

    PVD(Physical Vapor Deposition/物理気相成長)は、蒸発・スパッタリングなどの物理的プロセスによって固体材料を気化し、ウェハ表面に薄膜を堆積させる成膜技術の総称です。

  • ALD

    ALD(Atomic Layer Deposition/原子層堆積)は、自己制限的な表面反応を利用して薄膜を少しずつ積み上げる成膜技術です。

  • スパッタリング

    スパッタリング(Sputtering)は、物理気相成長(PVD)の代表的手法の一つです。

  • エピタキシー(エピ成長)

    エピタキシー(Epitaxy)とは、結晶基板の上に、基板と同じ結晶構造・格子定数を持つ薄い単結晶薄膜(エピタキシャル層)を気相または液相から成長させる技術です。

04同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。