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CONFERENCE

ICMCTF 2027(金属コーティングと薄膜国際会議)

AVS Advanced Surface Engineering Divisionが主催する、コーティングと薄膜を扱う国際会議。

01開催概要


正式名称
International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films
主催
AVS Advanced Surface Engineering Division
次回の会期
2027年4月25日〜4月30日(金)(開幕まであと179日)
開催地
サンディエゴ(米国)・Town & Country Resort
例年の開催
4月頃・米国(サンディエゴ)
分野
材料・物性
格付け
専門の国際会議コーティングと薄膜という特定のテーマに絞って開かれている国際会議のため、専門の国際会議としています。格付けの決め方
公式サイト
icmctf2027.avs.org(2026/10/24 確認)
会期をカレンダーに追加(.ics)

02投稿の日程


募集要項で発表されている締切と通知日です。

日付内容状況
2026年10月30日アブストラクト締切あと2日
2026年12月14日採否通知あと47日
2027年2月22日Late News締切あと117日

03ICMCTFはどんな学会か


ICMCTFは、AVS Advanced Surface Engineering Divisionが主催する、コーティングと薄膜を扱う国際会議です。2027年は4月25日から4月30日まで、サンディエゴ(米国)で開かれます。会場はTown & Country Resortです。

硬質膜・機能性薄膜の形成と評価、プラズマを使った成膜技術の研究が発表されます。

04注目の技術


ICMCTFでよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • CVD

    CVD(Chemical Vapor Deposition/化学気相成長)は、原料となる化学物質(前駆体ガス)をチャンバー内に導入し、熱・プラズマ・光などのエネルギーで化学反応を起こすことでウェハ表面に薄膜を堆積させる成膜技術の総称です。

  • PVD

    PVD(Physical Vapor Deposition/物理気相成長)は、蒸発・スパッタリングなどの物理的プロセスによって固体材料を気化し、ウェハ表面に薄膜を堆積させる成膜技術の総称です。

  • ALD

    ALD(Atomic Layer Deposition/原子層堆積)は、自己制限的な表面反応を利用して薄膜を少しずつ積み上げる成膜技術です。

  • スパッタリング

    スパッタリング(Sputtering)は、物理気相成長(PVD)の代表的手法の一つです。

  • エピタキシー(エピ成長)

    エピタキシー(Epitaxy)とは、結晶基板の上に、基板と同じ結晶構造・格子定数を持つ薄い単結晶薄膜(エピタキシャル層)を気相または液相から成長させる技術です。

05同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。