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CONFERENCE

ICPT(平坦化・CMP技術国際会議)

ICPT 実行委員会が主催する、CMP(化学機械研磨)と平坦化を扱う国際会議。

01開催概要


正式名称
International Conference on Planarization/CMP Technology
主催
ICPT 実行委員会
次回の会期
未発表(例年11月頃)
開催地
日本・米国・アジアの持ち回り
例年の開催
11月頃・日本・米国・アジアの持ち回り
分野
リソグラフィ・配線・量産
格付け
専門の国際会議CMP(化学機械研磨)と平坦化という特定のテーマに絞って開かれている国際会議のため、専門の国際会議としています。格付けの決め方
公式サイト
www.icpt2026.org(2026/10/24 確認)

02ICPTはどんな学会か


ICPTは、ICPT 実行委員会が主催する、CMP(化学機械研磨)と平坦化を扱う国際会議です。2026年はソウル(韓国)。例年11月ごろに開かれます。

CMPの装置・スラリー・パッド・洗浄、ハイブリッドボンディング向けの平坦化の研究が発表される、CMPに特化した会議です。

03注目の技術


ICPTでよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。

  • CMP

    CMP(Chemical Mechanical Polishing/化学機械研磨)は、研磨剤(スラリー)と研磨パッドを用いて、ウェハ表面を化学的作用と機械的作用の組み合わせでナノメートルレベルまで平坦化するプロセスです。

  • 酸化膜CMP(STI-CMP・ILD-CMP)

    酸化膜CMPとは、SiO₂系の絶縁膜を研磨対象とするCMP工程です。

  • ハイブリッドボンディング

    ハイブリッドボンディング(Hybrid Bonding)とは、半導体チップやウェーハを接合する際に、銅(Cu)の金属パッドと酸化シリコン(SiO₂)誘電体を同時に直接接合する技術であり、バンプ(はんだ突起)を使用しない超微細ピッチの三次元積層を実現する先進パッケージング技術である。

04同じ分野の学会

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※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。