CS MANTECH 2027(化合物半導体製造技術国際会議)
GaN・GaAs・SiC・InPなど化合物半導体の量産の製造技術を扱う、米国で毎年開かれる国際会議。
01開催概要
- 正式名称
- International Conference on Compound Semiconductor Manufacturing Technology
- 主催
- CS MANTECH
- 次回の会期
- 2027年5月17日〜5月20日(木)(開幕まであと201日)
- 開催地
- サンデスティン(米国フロリダ州)
- 例年の開催
- 5月頃・米国
- 分野
- リソグラフィ・配線・量産/パワー半導体
- 格付け
- 主要国際会議化合物半導体の量産技術を扱う主要な国際会議。パワーデバイスそのものの最高峰はISPSDのため主要国際会議としています。格付けの決め方
- 公式サイト
- csmantech.org(2026/10/24 確認)
02CS MANTECHはどんな学会か
CS MANTECHは、化合物半導体の製造技術を扱う国際会議です。毎年5月前後に米国で開かれます。
GaNやSiCのパワーデバイス、GaAsやInPの高周波・光デバイスを量産するための、結晶成長、プロセス、ウェハの大口径化、歩留まりや信頼性の改善が発表されます。シリコンとは違う材料ならではの製造の課題が集まる場です。
03注目の技術
CS MANTECHでよく発表される技術です。用語集で仕組みを確認できます。
- 化合物半導体
化合物半導体とは、周期表の2種類以上の元素を組み合わせて作られた半導体材料の総称です。
- GaN(窒化ガリウム)
GaN(窒化ガリウム、Gallium Nitride)は、ガリウム(Ga)と窒素(N)で構成されるIII-V族化合物半導体です。
- GaAs(ヒ化ガリウム)
GaAs(ガリウムヒ素、ヒ化ガリウム)とは、ガリウム(Ga)とヒ素(As)からなる13-15族(III-V族)化合物半導体です。
- InP(リン化インジウム)
InP(インジウムリン、リン化インジウム)とは、インジウム(In)とリン(P)からなるIII-V族化合物半導体です。
- HEMT(高電子移動度トランジスタ)
HEMT(高電子移動度トランジスタ、High Electron Mobility Transistor)とは、異なるバンドギャップを持つ化合物半導体のヘテロ接合界面に生じる2次元電子ガス(2DEG)を利用した高速FETです。
04同じ分野の学会
学会一覧へ →- SPIE先端リソグラフィ・パターニング(SPIE AL+P)2027年2月21日〜・サンノゼ(米国)
- パワー半導体国際シンポジウム(ISPSD)例年5月頃
- 応用パワーエレクトロニクス会議(APEC)2027年3月7日〜・ニューオーリンズ(米国)
- 国際半導体製造シンポジウム(ISSM)2026年12月7日〜・東京
- 先端半導体製造会議(ASMC)2027年6月14日〜・オールバニ(米国)
- 原子層堆積国際会議・原子層エッチング国際ワークショップ(ALD/ALE)2027年6月20日〜・ドレスデン(ドイツ)
- 炭化ケイ素および関連材料国際会議(ICSCRM)例年9月頃
- 化合物半導体ウィーク(CSW)2027年6月15日〜・ヴェネツィア(イタリア)
- 窒化物半導体国際会議(ICNS)例年7月頃
- 国際配線技術会議(IITC)例年6月頃
- 窒化物半導体国際ワークショップ(IWN)2026年11月8日〜・熊本
- AVS国際シンポジウム(AVS)2026年11月8日〜・ピッツバーグ(米国)
- 集積回路科学技術会議(CSTIC)2027年3月21日〜・上海(中国)
- IEEEエネルギー変換会議(ECCE)例年10月頃
- 電子・イオン・光子ビーム技術とナノ加工国際会議(EIPBN)2027年5月24日〜・スコッツデール(米国)
- 気体エレクトロニクス会議(GEC)2026年11月2日〜・シカゴ(米国)
- マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議(MNC)2026年11月10日〜・福岡
- マイクロ・ナノエンジニアリング国際会議(MNE)例年9月頃
- PCIMヨーロッパ(PCIM Europe)2027年5月11日〜・ニュルンベルク(ドイツ)
- フォトマスク・ジャパン(PMJ)2027年4月7日〜・横浜
- SPIE DTCOと計算機パターニング(SPIE DTCO)2027年2月21日〜・サンノゼ(米国)
- SPIE 先端エッチングとプロセス統合(SPIE Etch)2027年2月21日〜・サンノゼ(米国)
- SPIE パターニング材料とプロセス(SPIE Materials)2027年2月21日〜・サンノゼ(米国)
- SPIE 計測・検査・プロセス制御(SPIE Metrology)2027年2月21日〜・サンノゼ(米国)
- SPIE 光・EUVナノリソグラフィ(SPIE Optical/EUV)2027年2月21日〜・サンノゼ(米国)
- SPIE フォトマスク技術+EUVリソグラフィ(SPIE Photomask)例年9月頃
- 先端メタライゼーション会議(ADMETA)例年10月頃
- 平坦化・CMP技術国際会議(ICPT)例年11月頃
- 電気学会 全国大会(電気学会全国大会)2027年3月8日〜・金沢
- 先進プラズマ科学と窒化物・ナノ材料への応用国際シンポジウム(ISPlasma)例年3月頃
- 精密工学会 秋季大会学術講演会(精密工学会秋季大会)2027年9月15日〜・札幌
- 精密工学会 春季大会学術講演会(精密工学会春季大会)2027年3月17日〜・小金井(東京)
- プラズマ・核融合学会 年会(プラズマ・核融合学会年会)2026年12月8日〜・北九州
- PCIMインド(PCIM India)例年12月頃
- プラズマ・コンファレンス(プラズマ・コンファレンス)例年11月頃
- マイクロ電源システム・自立型センサ国際会議(PowerMEMS+)2026年12月6日〜・紹興(中国)
- ワイドバンドギャップパワーデバイスと応用ワークショップ(WiPDA)2026年10月26日〜・バーリントン(米国)
- WiPDA ヨーロッパ(WiPDA-Europe)例年9月頃
※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。