PMJ 2027（フォトマスク・ジャパン）

正式名称

Photomask Japan

主催

Photomask Japan・SPIE

次回の会期

2027年4月7日〜4月9日（金）（開幕まであと161日）

開催地

横浜・パシフィコ横浜 アネックスホール

例年の開催

4月頃・日本（横浜）

分野

リソグラフィ・配線・量産

格付け

主要国際会議Photomask Japan・SPIEが主催し、フォトマスクと次世代露光用マスクの分野で継続して開かれている国際会議のため、主要国際会議としています。格付けの決め方

公式サイト

smartconf.jp（2026/10/24 確認）

• フォトマスク

  フォトマスク（Photomask）は、半導体製造のリソグラフィ工程において、ICの回路パターンを光学的にウェハ上のフォトレジストに転写するための「版下」となる基板です。

• ペリクル

  ペリクル（Pellicle）とは、フォトマスク（レチクル）の表面をパーティクル（微細粒子）から保護するために貼付する薄い透明膜（メンブレン）とその支持フレームから構成される保護部品です。

• 電子ビーム描画

  電子ビーム描画装置（E-Beam Mask Writer）は、フォトマスク製造において、電子ビームをマスクブランク上に精密に照射・走査することでパターンを直接描画する装置です。

• EUV（極紫外線）

  EUV（Extreme Ultraviolet：極端紫外線）とは、波長13.5nmの極短波長光を指し、半導体リソグラフィ（露光）分野において7nm以下の超微細回路パターンを形成するための光源技術として不可欠な存在となっています。

• SPIE先端リソグラフィ・パターニング（SPIE AL+P）2027年2月21日〜・サンノゼ（米国）
• 国際半導体製造シンポジウム（ISSM）2026年12月7日〜・東京
• 先端半導体製造会議（ASMC）2027年6月14日〜・オールバニ（米国）
• 原子層堆積国際会議・原子層エッチング国際ワークショップ（ALD/ALE）2027年6月20日〜・ドレスデン（ドイツ）
• 化合物半導体製造技術国際会議（CS MANTECH）2027年5月17日〜・サンデスティン（米国フロリダ州）
• 国際配線技術会議（IITC）例年6月頃
• AVS国際シンポジウム（AVS）2026年11月8日〜・ピッツバーグ（米国）
• 集積回路科学技術会議（CSTIC）2027年3月21日〜・上海（中国）
• 電子・イオン・光子ビーム技術とナノ加工国際会議（EIPBN）2027年5月24日〜・スコッツデール（米国）
• 気体エレクトロニクス会議（GEC）2026年11月2日〜・シカゴ（米国）
• マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議（MNC）2026年11月10日〜・福岡
• マイクロ・ナノエンジニアリング国際会議（MNE）例年9月頃
• SPIE DTCOと計算機パターニング（SPIE DTCO）2027年2月21日〜・サンノゼ（米国）
• SPIE 先端エッチングとプロセス統合（SPIE Etch）2027年2月21日〜・サンノゼ（米国）
• SPIE パターニング材料とプロセス（SPIE Materials）2027年2月21日〜・サンノゼ（米国）
• SPIE 計測・検査・プロセス制御（SPIE Metrology）2027年2月21日〜・サンノゼ（米国）
• SPIE 光・EUVナノリソグラフィ（SPIE Optical/EUV）2027年2月21日〜・サンノゼ（米国）
• SPIE フォトマスク技術＋EUVリソグラフィ（SPIE Photomask）例年9月頃
• 先端メタライゼーション会議（ADMETA）例年10月頃
• 平坦化・CMP技術国際会議（ICPT）例年11月頃
• 先進プラズマ科学と窒化物・ナノ材料への応用国際シンポジウム（ISPlasma）例年3月頃
• 精密工学会 秋季大会学術講演会（精密工学会秋季大会）2027年9月15日〜・札幌
• 精密工学会 春季大会学術講演会（精密工学会春季大会）2027年3月17日〜・小金井（東京）
• プラズマ・核融合学会 年会（プラズマ・核融合学会年会）2026年12月8日〜・北九州
• プラズマ・コンファレンス（プラズマ・コンファレンス）例年11月頃

※ 会期・締切は2026/10/24に公式サイトで確認した情報です。変更されることがあるため、投稿・参加の前には公式サイトで最新の情報を確認してください。