EV Group/HBM(高帯域幅メモリ)

EVG®850 TB(仮接合)

デバイスウェーハをガラスやシリコンのキャリアへ仮接合する全自動装置。接着剤の塗布・ベーク・アライメント・接合を1台で行う。

EVG850 TBとは

EVG850 TB は、EV Group の全自動 仮接合(テンポラリーボンディング)システムです。薄化や裏面加工のあいだデバイスウェーハを支えるため、キャリア基板に一時的に貼り合わせる工程を担います。

最大 300mm の基板に対応し、より大きなキャリアも使えます。キャリアはシリコン、ガラス、サファイアなどに対応します。スピンコートの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、テープ系接着剤など、さまざまな仮接合材料を使えるオープンな接着剤プラットフォームを持ちます。

コート(接着剤塗布)、複数のホットプレートを持つベーク、光学式または機械式のアライン、ボンドの 4 つのモジュールで構成されます。レシピで制御し、リアルタイムにプロセスを監視し、SECS/GEM を統合しています。インライン計測モジュール、ID 読み取り、凹凸の大きいウェーハや反ったウェーハの搬送はオプションです。剥離には対となる EVG850 DB を使います。

主な特長

  • •全自動の仮接合(コート・ベーク・アライン・ボンド)
  • •最大 300mm、Si・ガラス・サファイアキャリア
  • •熱可塑・熱硬化・テープ系に対応するオープン接着剤プラットフォーム
  • •インライン計測モジュール(オプション)

主な仕様

工程仮接合(接着剤塗布〜接合)
対応材料スピンコート熱可塑性・熱硬化性接着剤・テープ
主要用途HBM・3D DRAM の薄ウェーハ加工

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

仮接合・剥離:2機種の比較

項目EV GroupEVG®850 TB(仮接合)EV GroupEVG®850 DB(剥離)
工程仮接合(接着剤塗布〜接合)剥離・洗浄
対応材料スピンコート熱可塑性・熱硬化性接着剤・テープスライドオフ/UV レーザー/IR LayerRelease 方式
主要用途HBM・3D DRAM の薄ウェーハ加工HBM・3D DRAM の薄ウェーハ加工

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •薄化・裏面加工のためのキャリア仮接合
  • •TSV・HBM のウェーハ加工

掲載カテゴリ

EVG850 TBは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

EV Group

オーストリアを拠点とするウェーハボンディングおよびリソグラフィ装置の世界的リーダー。先端パッケージングおよびMEMS製造に強み。

EV Group の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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