キヤノン(Canon)/DUV露光装置

FPA-6300ESW

33 × 42.2mm を一括露光でき、フルサイズ CMOS センサーをスティッチングなしで露光できる世界で唯一の KrF スキャナー。

FPA-6300ESWとは

FPA-6300ESW は、キヤノンの大画角の高生産性 KrF スキャナーです。投影倍率を 1:4 から 1:3.125 に変え、レチクルサイズは 6 インチのまま大画角化を実現しました。

33mm × 42.2mm を一括で露光できるため、フルサイズの CMOS イメージセンサーも、2 つ以上の露光領域をつなぐスティッチングをせずに露光できる、世界で唯一の KrF スキャナーです。

実績のある FPA-6300ES6a のプラットフォームを全面的に流用し、同等の稼働率と信頼性を実現します。解像力は 130nm 以下、NA は 0.45〜0.70 の自動可変、重ね合わせ精度は 9nm 以下で、300mm ウエハーに対応します。

主な特長

  • •33 × 42.2mm の一括露光
  • •スティッチング不要の唯一の KrF スキャナー
  • •FPA-6300ES6a のプラットフォーム

主な仕様

光源・解像力KrF 248nm・130nm 以下
画面サイズ・縮小比33 × 42.2mm・1:3.125
重ね合わせ精度9nm 以下

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目ASMLTWINSCAN NXT:2100iASMLTWINSCAN NXT:2150iASMLTWINSCAN NXT:2050iASMLTWINSCAN NXT:2000iASMLTWINSCAN NXT:1980FiASMLTWINSCAN NXT:1470ASMLTWINSCAN XT:1460KASMLTWINSCAN XT:1060KASMLTWINSCAN NXT:870BASMLTWINSCAN NXT:870ASMLTWINSCAN XT:860NASMLTWINSCAN XT:860Mニコン(Nikon)NSR-S635Eニコン(Nikon)NSR-S636Eニコン(Nikon)NSR-S625Eニコン(Nikon)NSR-S333Fニコン(Nikon)NSR-S322Fニコン(Nikon)NSR-S220Dニコン(Nikon)NSR-S215Dキヤノン(Canon)FPA-3030EX6キヤノン(Canon)FPA-6300ES6aキヤノン(Canon)FPA-6300ESW
光源ArF 液浸(193 nm)ArF 液浸(193nm)ArF 液浸(193nm)ArF 液浸(193nm)ArF 液浸(193nm)ArF ドライ(193nm)ArF ドライ(193nm・45W レーザ)KrF(248nm・40W レーザ)KrF ドライ(248nm)KrF(248nm・40/60W レーザ)KrF(248nm・40/50/60W レーザ)KrF(248nm・40W レーザ)ArF 液浸(193 nm)——————KrF(248 nm)——
スループット—————毎時 300 枚超——毎時 400 枚(300mm)毎時 330 枚(300mm)毎時 260 枚(300mm)・275 枚(200mm)—275 枚/時 以上(96 ショット)毎時 280 枚以上(96 ショット)毎時 280 枚以上(96 ショット)毎時 300 枚以上(96 ショット)毎時 230 枚以上(オプションで 250 枚以上)毎時 230 枚以上(96 ショット)毎時 330 枚以上(200mm・46 ショット)/200 枚以上(300mm・96 ショット)121 枚/時 以上——
重ね合わせ精度単体機 0.9 nm・機間 1.3 nm(前機種比 10%/13% 改善)———————————MMO 2.1 nm 以下MMO 2.1nm 以下MMO 2.5nm 以下MMO 4nm 以下MMO 5nm 以下MMO 6nm 以下—25 nm 以下5nm 以下(オプション適用時)9nm 以下
解像度————38 nm—65 nm—————38 nm 以下38nm 以下38nm 以下65nm 以下65nm 以下110nm 以下110nm 以下150 nm 以下——
投影光学系——NA 1.35NA 1.35(インライン反射屈折レンズ)——可変 NA 0.93——可変 NA 0.55〜0.80(ZEISS Starlith 865)可変 NA 0.55〜0.80(ZEISS Starlith 860+)可変 NA 0.55〜0.80(Carl Zeiss Starlith 860+)——————————
光源・NA—————————————ArF 液浸(193nm)・1.35ArF 液浸(193nm)・1.35ArF ドライ(193nm)・0.92ArF ドライ(193nm)・0.92KrF(248nm)・0.82KrF(248nm)・0.82———
対応ウェハ径300 mm——————————300 mm———————100/125/150/200 mm(選択)——
主要用途先端メモリ・ロジック(EUV との混用工程)——————2X nm 以降のメタル・ビア・注入層——————————————
改善—製品上の重ね合わせ 15% 改善・スループット 5% 向上——————NXT:870 比 20% 向上—————————————
特徴—ダイヤモンドウェーハテーブル—————KrF で業界最高の NA と生産性——————————————
開口数(NA)————————————1.35——————0.65 ~ 0.50(自動可変)——
光源・解像力————————————————————KrF 248nm・90nm 以下KrF 248nm・130nm 以下
1機種だけが掲載している項目(9件)
ステージデュアルステージ—————————————————————
プラットフォーム——NXT4———————————————————
生産性———最高 1 日 4,600 枚——————————————————
性能————装置間マッチング重ね合わせ 2.5nm・毎時 330 枚—————————————————
重ね合わせ—————製品上 4.5nm 未満(ドライ機で初)————————————————
関連機種————————————NSR-S636E(後継機)—————————
ウェハサイズ——————————————————200/300mm 両対応———
NA・画面サイズ————————————————————0.86〜0.50(自動可変)・26 × 33mm—
画面サイズ・縮小比—————————————————————33 × 42.2mm・1:3.125

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •フルサイズ CMOS イメージセンサーの露光

掲載カテゴリ

FPA-6300ESWは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

キヤノン(Canon)

i線・KrFステッパーを長年供給する露光装置メーカー。近年はナノインプリント・リソグラフィ(NIL)を量産化し、EUVに代わる新たな微細化ルートとして注目される。

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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