ニコン(Nikon)/DUV露光装置

NSR-S220D

毎時 230 枚以上と装置間の重ね合わせ精度 6nm 以下を実現した、Streamlign Platform 採用のニコンの KrF スキャナー。

NSR-S220Dとは

NSR-S220D は、ニコンの 300mm ウェハ向けの KrF スキャナーです。生産性と精度を大きく高めた Streamlign Platform を採用し、スループット毎時 230 枚以上と、装置間の重ね合わせ精度(MMO)6nm 以下を実現しています。

拡張性のある Streamlign Platform は、複数の世代にわたる先端デバイスの安定量産と、所有コスト(CoO)の低減に貢献します。

高精度エンコーダでステージを真上から測る Bird's Eye Control、ストレートライン AF と 5 眼の FIA でフォーカスとアライメントを高速化する Stream Alignment、立ち上げとメンテナンスを短くする Modular2 Structure を備えています。解像度は 110nm 以下、NA 0.82、縮小倍率 1:4、最大露光範囲 26 × 33mm です。

主な特長

  • •毎時 230 枚以上
  • •MMO 6nm 以下
  • •Streamlign Platform
  • •CoO の低減

主な仕様

光源・NAKrF(248nm)・0.82
解像度110nm 以下
重ね合わせ精度MMO 6nm 以下
スループット毎時 230 枚以上(96 ショット)

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目ASMLTWINSCAN NXT:2100iASMLTWINSCAN NXT:2150iASMLTWINSCAN NXT:2050iASMLTWINSCAN NXT:2000iASMLTWINSCAN NXT:1980FiASMLTWINSCAN NXT:1470ASMLTWINSCAN XT:1460KASMLTWINSCAN XT:1060KASMLTWINSCAN NXT:870BASMLTWINSCAN NXT:870ASMLTWINSCAN XT:860NASMLTWINSCAN XT:860Mニコン(Nikon)NSR-S635Eニコン(Nikon)NSR-S636Eニコン(Nikon)NSR-S625Eニコン(Nikon)NSR-S333Fニコン(Nikon)NSR-S322Fニコン(Nikon)NSR-S220Dニコン(Nikon)NSR-S215Dキヤノン(Canon)FPA-3030EX6キヤノン(Canon)FPA-6300ES6aキヤノン(Canon)FPA-6300ESW
光源ArF 液浸(193 nm)ArF 液浸(193nm)ArF 液浸(193nm)ArF 液浸(193nm)ArF 液浸(193nm)ArF ドライ(193nm)ArF ドライ(193nm・45W レーザ)KrF(248nm・40W レーザ)KrF ドライ(248nm)KrF(248nm・40/60W レーザ)KrF(248nm・40/50/60W レーザ)KrF(248nm・40W レーザ)ArF 液浸(193 nm)——————KrF(248 nm)——
スループット—————毎時 300 枚超——毎時 400 枚(300mm)毎時 330 枚(300mm)毎時 260 枚(300mm)・275 枚(200mm)—275 枚/時 以上(96 ショット)毎時 280 枚以上(96 ショット)毎時 280 枚以上(96 ショット)毎時 300 枚以上(96 ショット)毎時 230 枚以上(オプションで 250 枚以上)毎時 230 枚以上(96 ショット)毎時 330 枚以上(200mm・46 ショット)/200 枚以上(300mm・96 ショット)121 枚/時 以上——
重ね合わせ精度単体機 0.9 nm・機間 1.3 nm(前機種比 10%/13% 改善)———————————MMO 2.1 nm 以下MMO 2.1nm 以下MMO 2.5nm 以下MMO 4nm 以下MMO 5nm 以下MMO 6nm 以下—25 nm 以下5nm 以下(オプション適用時)9nm 以下
解像度————38 nm—65 nm—————38 nm 以下38nm 以下38nm 以下65nm 以下65nm 以下110nm 以下110nm 以下150 nm 以下——
投影光学系——NA 1.35NA 1.35(インライン反射屈折レンズ)——可変 NA 0.93——可変 NA 0.55〜0.80(ZEISS Starlith 865)可変 NA 0.55〜0.80(ZEISS Starlith 860+)可変 NA 0.55〜0.80(Carl Zeiss Starlith 860+)——————————
光源・NA—————————————ArF 液浸(193nm)・1.35ArF 液浸(193nm)・1.35ArF ドライ(193nm)・0.92ArF ドライ(193nm)・0.92KrF(248nm)・0.82KrF(248nm)・0.82———
対応ウェハ径300 mm——————————300 mm———————100/125/150/200 mm(選択)——
主要用途先端メモリ・ロジック(EUV との混用工程)——————2X nm 以降のメタル・ビア・注入層——————————————
改善—製品上の重ね合わせ 15% 改善・スループット 5% 向上——————NXT:870 比 20% 向上—————————————
特徴—ダイヤモンドウェーハテーブル—————KrF で業界最高の NA と生産性——————————————
開口数(NA)————————————1.35——————0.65 ~ 0.50(自動可変)——
光源・解像力————————————————————KrF 248nm・90nm 以下KrF 248nm・130nm 以下
1機種だけが掲載している項目(9件)
ステージデュアルステージ—————————————————————
プラットフォーム——NXT4———————————————————
生産性———最高 1 日 4,600 枚——————————————————
性能————装置間マッチング重ね合わせ 2.5nm・毎時 330 枚—————————————————
重ね合わせ—————製品上 4.5nm 未満(ドライ機で初)————————————————
関連機種————————————NSR-S636E(後継機)—————————
ウェハサイズ——————————————————200/300mm 両対応———
NA・画面サイズ————————————————————0.86〜0.50(自動可変)・26 × 33mm—
画面サイズ・縮小比—————————————————————33 × 42.2mm・1:3.125

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •KrF 層の量産露光

掲載カテゴリ

NSR-S220Dは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

ニコン(Nikon)

DUVスキャナーおよびi線ステッパーの主要メーカー。高解像度光学技術とウェーハステージ技術に強みを持ち、成熟プロセス向けや再生装置市場で存在感を発揮。

ニコン(Nikon) の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-07
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