ニコン(Nikon)/DUV露光装置

NSR-S635E

インライン・アライメント・ステーション(iAS)を統合したニコンの ArF 液浸スキャナー。Streamlign プラットフォームで高い生産性を得る。

NSR-S635Eとは

NSR-S635E は、ニコンの ArF 液浸スキャナーです。最先端の半導体を大量生産するために開発され、インライン・アライメント・ステーション(iAS)を統合しています。

光源は波長 193nm の ArF エキシマレーザー、開口数は 1.35、縮小率は 1:4、最大露光フィールドは 26×33mm です。解像度は 38nm 以下です。

Streamlign プラットフォームの効率を生かし、MMO(ミックス・アンド・マッチ・オーバーレイ)2.1nm 以下の重ね合わせ精度と、96 ショットで毎時 275 枚以上のスループットを両立しています。ニコンのラインアップには後継の NSR-S636E(毎時 280 枚以上)もあります。

主な特長

  • •ArF 液浸、NA 1.35、解像度 38nm 以下
  • •インライン・アライメント・ステーション(iAS)を統合
  • •MMO 2.1nm 以下の重ね合わせ精度
  • •毎時 275 枚以上(96 ショット)

主な仕様

光源ArF 液浸(193 nm)
開口数(NA)1.35
解像度38 nm 以下
スループット275 枚/時 以上(96 ショット)
重ね合わせ精度MMO 2.1 nm 以下
関連機種NSR-S636E(後継機)

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目ASMLTWINSCAN NXT:2100iニコン(Nikon)NSR-S635Eキヤノン(Canon)FPA-3030EX6
光源ArF 液浸(193 nm)ArF 液浸(193 nm)KrF(248 nm)
重ね合わせ精度単体機 0.9 nm・機間 1.3 nm(前機種比 10%/13% 改善)MMO 2.1 nm 以下25 nm 以下
対応ウェハ径300 mm—100/125/150/200 mm(選択)
開口数(NA)—1.350.65 ~ 0.50(自動可変)
解像度—38 nm 以下150 nm 以下
スループット—275 枚/時 以上(96 ショット)121 枚/時 以上
1機種だけが掲載している項目(3件)
ステージデュアルステージ——
主要用途先端メモリ・ロジック(EUV との混用工程)——
関連機種—NSR-S636E(後継機)—

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •先端ロジック・メモリの量産露光

掲載カテゴリ

NSR-S635Eは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

ニコン(Nikon)

DUVスキャナーおよびi線ステッパーの主要メーカー。高解像度光学技術とウェーハステージ技術に強みを持ち、成熟プロセス向けや再生装置市場で存在感を発揮。

ニコン(Nikon) の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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