NSR-S635E
インライン・アライメント・ステーション(iAS)を統合したニコンの ArF 液浸スキャナー。Streamlign プラットフォームで高い生産性を得る。
NSR-S635Eとは
NSR-S635E は、ニコンの ArF 液浸スキャナーです。最先端の半導体を大量生産するために開発され、インライン・アライメント・ステーション(iAS)を統合しています。
光源は波長 193nm の ArF エキシマレーザー、開口数は 1.35、縮小率は 1:4、最大露光フィールドは 26×33mm です。解像度は 38nm 以下です。
Streamlign プラットフォームの効率を生かし、MMO(ミックス・アンド・マッチ・オーバーレイ)2.1nm 以下の重ね合わせ精度と、96 ショットで毎時 275 枚以上のスループットを両立しています。ニコンのラインアップには後継の NSR-S636E(毎時 280 枚以上)もあります。
主な特長
- •ArF 液浸、NA 1.35、解像度 38nm 以下
- •インライン・アライメント・ステーション(iAS)を統合
- •MMO 2.1nm 以下の重ね合わせ精度
- •毎時 275 枚以上(96 ショット)
主な仕様
| 光源 | ArF 液浸(193 nm) |
|---|---|
| 開口数(NA) | 1.35 |
| 解像度 | 38 nm 以下 |
| スループット | 275 枚/時 以上(96 ショット) |
| 重ね合わせ精度 | MMO 2.1 nm 以下 |
| 関連機種 | NSR-S636E(後継機) |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | ASMLTWINSCAN NXT:2100i | ニコン(Nikon)NSR-S635E | キヤノン(Canon)FPA-3030EX6 |
|---|---|---|---|
| 光源 | ArF 液浸(193 nm) | ArF 液浸(193 nm) | KrF(248 nm) |
| 重ね合わせ精度 | 単体機 0.9 nm・機間 1.3 nm(前機種比 10%/13% 改善) | MMO 2.1 nm 以下 | 25 nm 以下 |
| 対応ウェハ径 | 300 mm | — | 100/125/150/200 mm(選択) |
| 開口数(NA) | — | 1.35 | 0.65 ~ 0.50(自動可変) |
| 解像度 | — | 38 nm 以下 | 150 nm 以下 |
| スループット | — | 275 枚/時 以上(96 ショット) | 121 枚/時 以上 |
1機種だけが掲載している項目(3件)
| ステージ | デュアルステージ | — | — |
|---|---|---|---|
| 主要用途 | 先端メモリ・ロジック(EUV との混用工程) | — | — |
| 関連機種 | — | NSR-S636E(後継機) | — |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •先端ロジック・メモリの量産露光
掲載カテゴリ
NSR-S635Eは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
ニコン(Nikon)
DUVスキャナーおよびi線ステッパーの主要メーカー。高解像度光学技術とウェーハステージ技術に強みを持ち、成熟プロセス向けや再生装置市場で存在感を発揮。
DUV露光装置のほかの製品
ニコン(Nikon)のほかの製品
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06