ASML/DUV露光装置

TWINSCAN NXT:2100i

ASML の ArF 液浸 DUV 露光装置。EUV 装置との重ね合わせ(クロスマッチング)を意識した改良で、単体機・機間の重ね合わせ精度を高めた。

TWINSCAN NXT:2100iとは

TWINSCAN NXT:2100i は、ASML の ArF 液浸 DUV 露光装置です。ウェーハと投影レンズの間を水で満たす液浸方式で、ArF(193nm)光の解像力を高めます。2つのウェーハステージを持つデュアルステージ構成で、計測と露光を並行して進めます。

先端工場では EUV と DUV の露光装置を同じ製品の別の層に使い分けるため、両者の重ね合わせ(クロスマッチング)が重要になります。NXT:2100i は新しいレンズ歪みマニピュレータを搭載して DUV と EUV のクロスマッチングに対応し、アライメント計測を 4 色から 12 色に増やしました。

レチクルの熱コンディショニングの強化や、レンズ計測用の新しい統合センサーユニットとあわせ、単体機の重ね合わせ精度を最大 10%(0.9nm)、機間の重ね合わせ精度を 13%(1.3nm)改善しています。メモリとロジックの量産に使われます。

主な特長

  • •ArF 液浸・デュアルステージ
  • •DUV–EUV クロスマッチング用のレンズ歪みマニピュレータ
  • •アライメント計測を 4 色から 12 色へ
  • •重ね合わせ精度 単体 0.9nm・機間 1.3nm

主な仕様

光源ArF 液浸(193 nm)
ステージデュアルステージ
重ね合わせ精度単体機 0.9 nm・機間 1.3 nm(前機種比 10%/13% 改善)
対応ウェハ径300 mm
主要用途先端メモリ・ロジック(EUV との混用工程)

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目ASMLTWINSCAN NXT:2100iニコン(Nikon)NSR-S635Eキヤノン(Canon)FPA-3030EX6
光源ArF 液浸(193 nm)ArF 液浸(193 nm)KrF(248 nm)
重ね合わせ精度単体機 0.9 nm・機間 1.3 nm(前機種比 10%/13% 改善)MMO 2.1 nm 以下25 nm 以下
対応ウェハ径300 mm—100/125/150/200 mm(選択)
開口数(NA)—1.350.65 ~ 0.50(自動可変)
解像度—38 nm 以下150 nm 以下
スループット—275 枚/時 以上(96 ショット)121 枚/時 以上
1機種だけが掲載している項目(3件)
ステージデュアルステージ——
主要用途先端メモリ・ロジック(EUV との混用工程)——
関連機種—NSR-S636E(後継機)—

※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

主な用途

  • •先端メモリ・ロジックのクリティカル層
  • •EUV と混用する工程の DUV 層

掲載カテゴリ

TWINSCAN NXT:2100iは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。

メーカー

ASML

EUV露光装置の唯一のグローバルサプライヤー。極紫外光リソグラフィ技術でムーアの法則を延命させ、5nm以下の先端プロセスに不可欠。

ASML の企業情報 →メーカー公式の製品ページ ↗

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出典・確認した公開情報
最終確認日:2026-10-06
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