TWINSCAN XT:1460K

65nm の解像度で 300mm ウェーハを量産する高生産性のドライ ArF 露光装置。

TWINSCAN XT:1460Kとは

TWINSCAN XT:1460K は、ASML の 193nm ステップ・アンド・スキャン露光装置です。65nm の解像度で 300mm ウェーハを量産するために設計された、高生産性のデュアルステージの ArF 露光装置です。

可変 NA 0.93 の 193nm 投影レンズと高度なレンズマニピュレータを搭載しています。

TWINSCAN プラットフォームのデュアルウェーハステージで、1 枚の露光と次のウェーハのアライメントを並行して行い、待ち時間をほぼなくして連続でパターンを描きます。優れた CD 均一性、業界をリードする重ね合わせ、長期の性能安定性を持ちます。標準で 45W の ArF レーザを搭載しています。

主な特長

•可変 NA 0.93
•デュアルウェーハステージ
•65nm 解像度

主な仕様

光源	ArF ドライ（193nm・45W レーザ）
投影光学系	可変 NA 0.93
解像度	65 nm

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	ASMLTWINSCAN NXT:2100i	ASMLTWINSCAN NXT:2150i	ASMLTWINSCAN NXT:2050i	ASMLTWINSCAN NXT:2000i	ASMLTWINSCAN NXT:1980Fi	ASMLTWINSCAN NXT:1470	ASMLTWINSCAN XT:1460K	ASMLTWINSCAN XT:1060K	ASMLTWINSCAN NXT:870B	ASMLTWINSCAN NXT:870	ASMLTWINSCAN XT:860N	ASMLTWINSCAN XT:860M	ニコン（Nikon）NSR-S635E	ニコン（Nikon）NSR-S636E	ニコン（Nikon）NSR-S625E	ニコン（Nikon）NSR-S333F	ニコン（Nikon）NSR-S322F	ニコン（Nikon）NSR-S220D	ニコン（Nikon）NSR-S215D	キヤノン（Canon）FPA-3030EX6	キヤノン（Canon）FPA-6300ES6a	キヤノン（Canon）FPA-6300ESW
光源	ArF 液浸（193 nm）	ArF 液浸（193nm）	ArF 液浸（193nm）	ArF 液浸（193nm）	ArF 液浸（193nm）	ArF ドライ（193nm）	ArF ドライ（193nm・45W レーザ）	KrF（248nm・40W レーザ）	KrF ドライ（248nm）	KrF（248nm・40／60W レーザ）	KrF（248nm・40／50／60W レーザ）	KrF（248nm・40W レーザ）	ArF 液浸（193 nm）	—	—	—	—	—	—	KrF（248 nm）	—	—
スループット	—	—	—	—	—	毎時 300 枚超	—	—	毎時 400 枚（300mm）	毎時 330 枚（300mm）	毎時 260 枚（300mm）・275 枚（200mm）	—	275 枚／時以上（96 ショット）	毎時 280 枚以上（96 ショット）	毎時 280 枚以上（96 ショット）	毎時 300 枚以上（96 ショット）	毎時 230 枚以上（オプションで 250 枚以上）	毎時 230 枚以上（96 ショット）	毎時 330 枚以上（200mm・46 ショット）／200 枚以上（300mm・96 ショット）	121 枚／時以上	—	—
重ね合わせ精度	単体機 0.9 nm・機間 1.3 nm（前機種比 10%／13% 改善）	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	MMO 2.1 nm 以下	MMO 2.1nm 以下	MMO 2.5nm 以下	MMO 4nm 以下	MMO 5nm 以下	MMO 6nm 以下	—	25 nm 以下	5nm 以下（オプション適用時）	9nm 以下
解像度	—	—	—	—	38 nm	—	65 nm	—	—	—	—	—	38 nm 以下	38nm 以下	38nm 以下	65nm 以下	65nm 以下	110nm 以下	110nm 以下	150 nm 以下	—	—
投影光学系	—	—	NA 1.35	NA 1.35（インライン反射屈折レンズ）	—	—	可変 NA 0.93	—	—	可変 NA 0.55〜0.80（ZEISS Starlith 865）	可変 NA 0.55〜0.80（ZEISS Starlith 860+）	可変 NA 0.55〜0.80（Carl Zeiss Starlith 860+）	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
光源・NA	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	ArF 液浸（193nm）・1.35	ArF 液浸（193nm）・1.35	ArF ドライ（193nm）・0.92	ArF ドライ（193nm）・0.92	KrF（248nm）・0.82	KrF（248nm）・0.82	—	—	—
対応ウェハ径	300 mm	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	300 mm	—	—	—	—	—	—	—	100／125／150／200 mm（選択）	—	—
主要用途	先端メモリ・ロジック（EUV との混用工程）	—	—	—	—	—	—	2X nm 以降のメタル・ビア・注入層	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
改善	—	製品上の重ね合わせ 15% 改善・スループット 5% 向上	—	—	—	—	—	—	NXT:870 比 20% 向上	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
特徴	—	ダイヤモンドウェーハテーブル	—	—	—	—	—	KrF で業界最高の NA と生産性	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
開口数（NA）	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	1.35	—	—	—	—	—	—	0.65 ～ 0.50（自動可変）	—	—
光源・解像力	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	KrF 248nm・90nm 以下	KrF 248nm・130nm 以下

1機種だけが掲載している項目（9件）

ステージ	デュアルステージ	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
プラットフォーム	—	—	NXT4	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
生産性	—	—	—	最高 1 日 4,600 枚	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
性能	—	—	—	—	装置間マッチング重ね合わせ 2.5nm・毎時 330 枚	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
重ね合わせ	—	—	—	—	—	製品上 4.5nm 未満（ドライ機で初）	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
関連機種	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	NSR-S636E（後継機）	—	—	—	—	—	—	—	—	—
ウェハサイズ	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	200／300mm 両対応	—	—	—
NA・画面サイズ	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	0.86〜0.50（自動可変）・26 × 33mm	—
画面サイズ・縮小比	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	33 × 42.2mm・1:3.125