NSR-S215D 是尼康的 KrF 掃描式曝光機。同時對應 200mm 與 300mm 晶圓，以成熟製程節點為主，用於各種半導體元件的高效率生產。
採用共通的機體平台，在提高產能的同時實現與既有設備同等的曝光性能。可對應翹曲晶圓，並能自動化建立配方。與尼康既有的 KrF 掃描式曝光機高度相容，可共用光罩與配方，因此也適合汰換舊機。
考量長期使用，從零件層級重新檢視設計，提高維護性。解析度 110nm 以下，NA 0.82，最大曝光範圍 26 × 33mm，疊對精度 MMO 15nm 以下。套用選配時的產能為 200mm 每小時 330 片以上（46 shot）、300mm 每小時 200 片以上（96 shot）。