最後更新:2026年10月23日DUV 曝光機

NSR-S333F的特點與規格

尼康(Nikon)・DUV 曝光機

採用 ArF 浸潤式掃描式曝光機平台的尼康 ArF(乾式)掃描式曝光機。兼顧每小時 300 片以上與 MMO 4nm 以下。

目錄5 項
  1. 產品概要
  2. 主要規格
  3. 主要特點
  4. 製造商與在台據點
  5. 資料來源

產品概要

NSR-S333F 是尼康的 ArF(乾式)掃描式曝光機。在既有 ArF 掃描式曝光機的光學系統上,結合最高階 ArF 浸潤式掃描式曝光機 NSR-S636E 的平台,提高生產力與疊對精度。可對應邏輯、記憶體、影像感測器等多種元件的微細圖案製造。

提高晶圓載台與光罩載台的速度,實現每小時 300 片以上(300mm・96 shot)的產能,運轉也更加穩定,生產力提高為前代機型 NSR-S322F 的約 1.5 倍。

承襲 NSR-S322F 已有實績的光學系統,提升晶圓對準量測、光罩載台量測與自動對焦的性能,實現 ArF 掃描式曝光機中業界最高水準(截至 2025 年 9 月,尼康調查)的 MMO 4nm 以下疊對精度。具備以編碼器從正上方量測載台的 Bird's Eye Control、以直線 AF 與 5 眼 FIA 構成的 Stream Alignment,以及以單元為單位模組化的 Modular2 Structure。

主要規格

光源・NAArF 乾式(193nm)・0.92
解析度65nm 以下
疊對精度MMO 4nm 以下
產能每小時 300 片以上(96 shot)

規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。

主要特點

每小時 300 片以上
生產力為 NSR-S322F 的約 1.5 倍
MMO 4nm 以下
Streamlign Platform

主要用途

  • 邏輯・記憶體・影像感測器的微細圖案

製造商

尼康(Nikon)(總部:日本)

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資料來源

  1. 尼康(Nikon)官方產品頁面:NSR-S333F