NSR-S636E 是尼康針對關鍵層的 ArF 浸潤式掃描式曝光機。在疊對精度與產能上皆達高水準，實現尼康半導體曝光機中最高水準的生產力。
進一步改良自前代機型起搭載的高性能對準站「inline Alignment Station（iAS）」，在維持高產能的同時，能以更高精度量測與補正晶圓的翹曲與變形。iAS 是將對準站以線上方式整合進曝光機內，可在不降低產能的情況下對所有 shot 進行多點對準。
同時減少停機時間，改善整體生產力。解析度 38nm 以下，NA 1.35，縮小倍率 1:4，最大曝光範圍 26 × 33mm，同機型間的疊對精度（MMO）為 2.1nm 以下，產能為每小時 280 片以上（96 shot）。