EB40 是 Onto Innovation 將邊緣與背面檢測整合為 1 個的模組。與檢測設備組合,即可進行高產能的全面檢測。
為取得 Class 1 認證的模組,除了邊緣與背面的一體檢測,也有邊緣(E40)與背面(B40)的個別模組。以明場與暗場檢出整個斜邊與背面(Zone 1~5)的缺陷。
可及早找出可能移動到晶圓內側、影響晶粒良率之缺陷的根本原因。在掃描的同時擷取缺陷影像,製作整片晶圓的合成影像,並可與 SEM 的斜邊複檢連動。
將邊緣與背面檢測整合為 1 台的模組。與檢測設備組合即可進行全面檢測。
EB40 是 Onto Innovation 將邊緣與背面檢測整合為 1 個的模組。與檢測設備組合,即可進行高產能的全面檢測。
為取得 Class 1 認證的模組,除了邊緣與背面的一體檢測,也有邊緣(E40)與背面(B40)的個別模組。以明場與暗場檢出整個斜邊與背面(Zone 1~5)的缺陷。
可及早找出可能移動到晶圓內側、影響晶粒良率之缺陷的根本原因。在掃描的同時擷取缺陷影像,製作整片晶圓的合成影像,並可與 SEM 的斜邊複檢連動。
| 方式 | 明場・暗場的邊緣/背面檢測 |
|---|---|
| 範圍 | 整個斜邊(bevel)與背面(Zone 1~5) |
| 配置 | EB40(一體)・E40(邊緣)・B40(背面) |
規格依廠商公開資料整理,實際規格與選配請以廠商資料為準。
Onto Innovation(總部:美國)