ケミカルフィルタ（AMC除去）メーカー4社
ケミカルフィルタは、粒子ではなくガス状の汚染物質（AMC：気中分子汚染）を除去するフィルタです。空気中のアンモニアは化学増幅型レジストの酸を中和してパターン寸法を狂わせ、有機酸やシロキサンはレンズやウェハ表面に付着して欠陥の原因になります。活性炭やイオン交換繊維に吸着させて除去し、対象がアルカリ性か酸性か有機物かによって濾材を使い分けます。HEPAフィルタでは粒子しか取れないため、リソグラフィエリアではこのフィルタが必須になります。
主要特徴
メーカー
4社の主要メーカー
半導体材料インテグリティ管理の専業企業。ウェハキャリア（FOUP）・CMPスラリー・超純水フィルタ・ガス精製器など汚染制御製品でNo.1クラスのシェア。
- •半導体用CMPスラリー・研磨材料のグローバルトップ（CMC Materials統合後）
- •超純水・薬液フィルタで世界最高水準の汚染管理
1939年設立のエアフィルタ専業メーカーで、ダイキン工業が株主。粗じんフィルタから超高性能フィルタ・ケミカルフィルタまでのフィルタ製品に加え、エアシャワー・パスボックス・フィルタユニットなどのクリーンルーム機器、ガラス繊維製品を製造し、クリーンルームの環境診断も行う。
- •粗じんから超高性能・ケミカルまでのフィルタ品揃え
- •エアシャワー・パスボックスなど入口設備も自社供給
空気と水のクリーン機器の専門メーカー。1965年に国産HEPAフィルタを開発し、1980年にULPAフィルタとスーパークリーンルーム用システム天井を超LSI工場向けに投入した。現在もULPA/HEPAフィルタ、ケミカルフィルタ、クリーンルーム用機器を製造販売する。
- •国産HEPAフィルタ開発以来のフィルタ技術
- •ULPAフィルタとクリーンルーム天井システムの実績
空気浄化システムとクリーンルームの設計・製造・販売を行う。ガス状汚染物質を除去するケミカルフィルターを中心に、ダクトフランジシステム、ケミカルフィルターと HEPA フィルターを組み合わせた空間浄化装置を手がける。
- •ケミカルフィルターによる化学汚染対策
- •ケミカルと HEPA を組み合わせた浄化装置
関連カテゴリ
アクセスフロア・床材は、クリーンルームの垂直層流を床下へ抜けさせ、同時に配管・配線を通すための床構造です。
メーカー 1 社HEPA/ULPAエアフィルタHEPA/ULPAエアフィルタは、空気中の微粒子を捕集してクリーンルームの清浄度を作る中核部材です。
メーカー 3 社エアシャワー・パスボックスエアシャワー・パスボックスは、人や物がクリーンルームへ入る際に付着した粒子を除去する入口設備です。
メーカー 5 社クリーンベンチクリーンベンチは、作業面のごく限られた空間だけを高清浄度に保つ局所クリーン装置です。
メーカー 3 社無塵衣・手袋類無塵衣・手袋類は、作業者から出る粒子をクリーンルーム内へ放出させないための着用資材です。
メーカー 4 社クリーンルーム計測・運転管理クリーンルーム計測・運転管理は、清浄度・温湿度・差圧・気流といった環境パラメータを常時測定し、基準内に保つための計測機器と管理の仕組みです。
メーカー 4 社什器・マット・洗濯機類什器・マット・洗濯機類は、クリーンルームで使う備品と、その清浄度を保つための周辺設備です。
メーカー 5 社FFU・ファンフィルタユニットFFU（ファンフィルタユニット）は、送風ファンとHEPA/ULPAフィルタを一体化し、天井面から清浄空気を吹き下ろすユニットです。
メーカー 4 社イオナイザ（静電気除去）イオナイザは、空気中に正負のイオンを供給して帯電した物体の静電気を中和する装置です。
メーカー 3 社