TANDUO
KOKUSAI ELECTRICの枚葉式熱処理装置。アニールと薄膜形成をモジュール構成で選択でき、バッチ炉では対応しにくい短時間処理を担う。
TANDUOとは
TANDUO（タンデュオ）は、KOKUSAI ELECTRIC の 300mm 対応 枚葉トリートメント（膜質改善）装置です。成膜した薄膜に熱を加えて不純物を除去し、膜質を改善する工程を担います。
プロセスに応じてモジュールを選ぶ構成で、キュア、アニール、デガスなどに合わせた最適なシステムを組めます。同社独自の高速搬送システムと組み合わせることで高いスループットを得ており、独自のサセプタヒーターでウェーハ面内の温度を高い均一性で制御します。
低レベルのコンタミネーション、省フットプリント、高稼働率を特長とし、高スループットの枚葉アニール装置として世界での販売実績があります。同じ枚葉トリートメント装置には、MMT 方式の低電子温度プラズマで窒化・酸化を行う MARORA があります。
主な特長
- •キュア・アニール・デガスに合わせたモジュール選択
- •独自の高速搬送システムで高スループット
- •サセプタヒーターによる高均一な面内温度制御
- •低コンタミ・省フットプリント・高稼働率
主な仕様
| 方式 | 枚葉式 |
|---|---|
| 対応プロセス | アニール・薄膜形成 |
| 構成 | モジュール選択式 |
| 関連機種 | MARORA（プラズマ窒化・プラズマ酸化） |
| 主要用途 | 枚葉での熱処理・膜質改善 |
※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
スペック比較
複数の機種が掲載している項目を並べています。
| 項目 | Applied MaterialsVantage Vulcan RTP | Mattson TechnologyHelios® XP（RTPシステム） | Kokusai Electric（国際電気）TANDUO |
|---|---|---|---|
| 方式 | ランプ加熱式 RTP（枚葉） | 両面加熱（ダブルサイドヒーティング）RTP | 枚葉式 |
| 主要用途 | 不純物活性化・シリサイド形成などの短時間熱処理 | 活性化アニール・シリサイド化アニール | 枚葉での熱処理・膜質改善 |
| 対応プロセス | スパイク／サブ秒／超低温／各種メタルアニール | — | アニール・薄膜形成 |
| 関連機種 | Vantage Radiance Plus RTP（前世代機） | — | MARORA（プラズマ窒化・プラズマ酸化） |
1機種だけが掲載している項目（5件）
| チャンバー技術 | ハニカム型ランプ光源・多点温度測定・閉ループ制御 | — | — |
|---|---|---|---|
| 特徴 | — | 表裏の温度バランス制御による高速昇温 | — |
| 効果 | — | パターン負荷効果の低減・ウェハ応力の管理 | — |
| 対応範囲 | — | 基板厚・デバイス構造の異なるRTPプロセス | — |
| 構成 | — | — | モジュール選択式 |
※ スペックは各メーカーの公開情報に基づく参考値です。メーカーが公表していない項目は「—」としています。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。
主な用途
- •枚葉アニール（低温・高温）
- •膜のキュア・デガス
掲載カテゴリ
TANDUOは次の装置カテゴリで他社製品と並べて掲載しています。
メーカー
Kokusai Electric（国際電気）
バッチ式縦型CVD・熱処理装置の世界的リーダー。酸化・窒化・ALD成膜を高スループットで実現し、DRAM・NANDのゲート絶縁膜形成に不可欠。
RTP（急速熱処理）装置のほかの製品
Kokusai Electric（国際電気）のほかの製品
関連用語
出典・確認した公開情報
最終確認日：2026-10-06