退火爐是什麼
退火爐是在成膜或離子佈植後加熱晶圓，以推進晶體缺陷修復、雜質活化、膜緻密化與應力緩和的熱處理設備。以立式批次爐花數小時緩慢處理的方式，適合以氫氣退火降低界面態，或銅導線晶粒成長這類花時間處理較佳的製程。與秒級的 RTP、毫秒級的雷射退火相比，本分類負責低溫・長時間的一側，依熱預算與處理目的分別使用。環境氣體的純度對處理結果影響很大。
重點整理
負責晶體缺陷修復・雜質活化・膜緻密化・應力緩和
以立式批次爐花數小時進行的低溫長時間熱處理
對以氫氣退火降低界面態與銅導線晶粒成長有效
與 RTP・雷射退火依熱預算與目的分別使用
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