SOI 晶圓是什麼
SOI 晶圓是在矽主動層與支撐基板之間夾入埋入式氧化層(BOX 層)的基板。由於元件被絕緣膜與底層隔開,接面電容減少,可實現高速・低功耗,對閂鎖效應與輻射造成的軟錯誤也更具耐受性。將主動層做得極薄的 FD-SOI 適合低電壓操作,已被 RF 開關與 IoT 用 SoC 採用。製造方法廣泛使用利用氫離子佈植與剝離的 Smart Cut 法,主動層的膜厚均勻性決定特性變異。
重點整理
在主動層與支撐基板之間夾入埋入式氧化層的基板結構
藉由降低接面電容實現高速・低功耗
具優異的閂鎖效應耐受性與軟錯誤耐受性
以 Smart Cut 法為主流,主動層的膜厚均勻性決定特性
相關用語
比較文章
- 研磨(Lapping)與雙面拋光(DSP)的差異兩者都是同時加工晶圓正反面以做出平坦度的製程,但目標不同。研磨(Lapping)是在短時間內去除切片痕跡與厚度不均的粗加工,雙面拋光(DSP)則是做出微影所要求…
- 磊晶晶圓與拋光晶圓的差異同樣是矽晶圓,僅經研磨的拋光晶圓,與在其上成長磊晶層的磊晶晶圓,表層的本質完全不同。前者是「從晶棒切下的一部分」,後者是「由氣相全新形成的單晶表面」。這項差異反…
- CZ法與FZ法的差異(矽單晶成長比較)CZ法(柴氏長晶法)是從石英坩堝的熔湯中提拉晶種來成長單晶的方法;FZ法(浮區法)是不使用坩堝、以區域熔融進行單晶化與純化的方法。CZ法適合大口徑・量產,FZ法…
- 300mm晶圓與200mm晶圓的差異(成本、用途與設備比較)半導體製造所用晶圓的直徑(吋數)大幅左右晶片的製造成本與適用用途。300mm(12吋)晶圓用於先進邏輯、DRAM與NAND的大量生產,面積為200mm的2.25…
- SOI晶圓與塊材矽晶圓的差異作為製作電晶體基礎的晶圓,除了一般的塊材矽晶圓之外,還有內部埋入絕緣層的SOI晶圓。選擇哪一種,不只影響電晶體效能,也會影響製造成本、電路設計手法,乃至最終產品…