Aera™ 6 Mask Inspection

193nm 光源を使う第 6 世代のマスク検査装置。露光装置と同じ見え方（エアリアルイメージ）での検査と高解像度検査を 1 台で行う。

Aera 6 Mask Inspectionとは

Aera 6 は、Applied Materials の第 6 世代のフォトマスク検査装置です。193nm の光を使い、露光装置（スキャナー）でウェーハに写るときと同じ見え方で欠陥を調べるエアリアルイメージ検査と、高解像度の画像検査を 1 台で組み合わせています。

新しいリソグラフィ級のレンズと 2 つの CCD を搭載し、S/N 比とスループットを高めました。逆リソグラフィなどの強い光近接効果補正（OPC）を使うマスクや EUV マスクの検査、ダブル／クアドルプルパターニング用マスクの高感度検査に対応し、誤検出も少なく抑えます。

欠陥がウェーハに転写されるかどうかを自動で分類し、AI のアルゴリズムも活用します。ヘイズの早期検出、193nm・EUV 露光による劣化の監視、2.5nm 解像度でのエッジ欠陥レビュー、IntenCD によるマスク全面の CD 均一性マップにも対応し、マスクの寿命を延ばしてコストを下げます。

主な特長

•193nm のエアリアルイメージ検査
•高解像度イメージングとの組み合わせ
•転写／非転写の自動欠陥分類
•IntenCD による CD 均一性マップ

主な仕様

検査方式	193nm エアリアルイメージ＋高解像度イメージング
対象	先端メモリ・ロジック用マスク（EUV マスクを含む）
主な機能	転写／非転写の自動欠陥分類・ヘイズ早期検出・IntenCD による CD 均一性マップ

※ メーカーの公開情報に基づく参考値です。構成・オプションにより異なります。正確な仕様はメーカーへお問い合わせください。

スペック比較

複数の機種が掲載している項目を並べています。

項目	KLATeron™ 6xx シリーズ	Applied MaterialsAera™ 6 Mask Inspection	アドバンテストMASK DR-SEM E5620	レーザーテックACTIS A300 シリーズ	レーザーテックACTIS A150	レーザーテックACTIS A200HiT シリーズ	レーザーテックABICS E320	レーザーテックABICS E120	レーザーテックMATRICS X9ULTRA シリーズ	レーザーテックMATRICS X8ULTRA シリーズ	レーザーテックMATRICS X810EX シリーズ	レーザーテックMATRICS X712 シリーズ	レーザーテックMAGICS M9750／M9751	レーザーテックMAGICS M9650／M9651	レーザーテックMAGICS M6750／M6751	レーザーテックPELMIS シリーズ	レーザーテックBASIC シリーズ	レーザーテックMZ100
対象	—	先端メモリ・ロジック用マスク（EUV マスクを含む）	6025 サイズのフォトマスク	High-NA 用・現行 NA 用の EUV マスク（ペリクル付き対応）	EUV マスク（ペリクル付き対応）	—	次世代 EUV マスクブランクス（Mo/Si 多層膜）	EUV マスクブランクス（Mo/Si 多層膜）	ペリクル非装着の EUV マスク	ペリクル非装着 EUV マスク・DUV マスク	—	成熟プロセスノードのマスク	EUV マスクブランクス・サブストレート	EUV マスクブランクス・光マスクブランクス・サブストレート	レジスト塗布済みブランクス・Cr／MoSi／ハーフトーン膜	ペリクル付き EUV マスク（ペリクル面・パターン面・外周部）	EUV マスク（6 インチ）	EUV・DUV フォトマスク
方式	—	—	—	アクティニック検査（EUV 光・URASHIMA 光源）	アクティニック検査（EUV 光 13.5nm）	アクティニック検査（EUV 光）	アクティニック検査（13.5nm）・40x 暗視野光学系	アクティニック検査（13.5nm）・暗視野光学系	—	—	—	—	MAGICS の基幹技術＋刷新した検査光学系・高速検査回路	—	コンフォーカル光学系・63 本のマルチビームスキャン	—	—	コンフォーカル光学系
発表	—	—	—	2023年11月	—	2025年10月	—	—	2022年4月	—	—	2026年3月	2025年12月	—	—	2024年12月	—	—
機能	—	—	—	—	—	—	—	—	—	マスク to マスク比較（MtM）・OHT 連動の全自動検査	—	—	—	—	M6751 は描画・ベーク後の潜像パターン上の異物検査に対応	表裏の自動判別・ダイ比較・マスク to マスク比較	裏面の異物検出・異物の高さ測定・クリーニング	—
受賞	—	—	—	—	2019年十大新製品賞・半導体・オブ・ザ・イヤー2020 グランプリ	—	—	2017年十大新製品賞・半導体・オブ・ザ・イヤー2018 グランプリ	—	—	—	—	—	半導体・オブ・ザ・イヤー2019 グランプリ	—	—	—	—
光源	—	—	—	—	—	—	—	—	ハイパワー 193nm レーザー	—	213nm QCW レーザー（400mW 超・従来比 2 倍）	—	—	—	—	—	—	—

1機種だけが掲載している項目（17件）

検査対象	EUV・光露光用パターン付きレチクル	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
検出方式	ダイ・トゥ・データベース／ダイ・トゥ・ダイ	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
シリーズ構成	Teron 647eS2／647eS／647e／647／637	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
主要用途	マスクショップのレチクル品質認定・出荷検査	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
検査方式	—	193nm エアリアルイメージ＋高解像度イメージング	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
主な機能	—	転写／非転写の自動欠陥分類・ヘイズ早期検出・IntenCD による CD 均一性マップ	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
SEM 空間分解能	—	—	2nm	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
オプション	—	—	元素分析（EDS・127eV）・後方散乱電子分析	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
検査速度	—	—	—	—	—	ACTIS A150 の 3 倍	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
レビュー	—	—	—	—	—	—	1,500x 高倍率・明視野／暗視野	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—
光学	—	—	—	—	—	—	—	—	—	画素 45nm・213nm QCW レーザー（400mW 超）・2 種類の偏光照明	—	—	—	—	—	—	—	—
スキャン時間	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	38 分／100 × 100mm	—	—	—	—	—	—	—
対応マスク	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	Cr・MoSi・OMOG（6 インチ）	—	—	—	—	—	—	—
検査モード	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	DDB（Die-to-Database）・DD（Die-to-Die）・SD（Single Die）	—	—	—	—	—	—
カセット	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	多段カセット・RSP・MRP・Dual Pod	—	—	—	—
装置サイズ	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	1,550 × 2,955 × 2,400 mm	—
検査範囲	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	—	マスク中央 146 × 146mm 以外の全領域（サイド面・ベベル）