Producer Onyx 是應用材料的 Low-k 介電膜處理設備。隔絕銅導線的薄膜介電常數（k 值）隨著微縮，從 4.0（SiO₂）降到摻氟的 3.5、摻碳的 3.0，再到多孔化的 2.5。2X nm 世代需要 k≒2.2 的超 Low-k。
Low-k 膜在製作 10～12 層導線的過程中要經歷 150 道以上的製程，脆弱的多孔膜容易受損。Onyx 處理薄膜以提高導線的絕緣性，支撐 22nm 以後的邏輯微縮。
也能提高晶片的機械強度，因此可提升封裝良率。廠商也宣稱，改善導線絕緣可延長行動裝置的電池壽命。