Producer BLOk（Barrier Low-k）PECVD 是應用材料用於銅導線的 PECVD 設備。沉積鑲嵌導線所用、業界領先的超低介電常數銅阻障膜與蝕刻停止膜。
採 Twin Chamber 配置，對每片晶圓原位進行專利的銅氧化物去除處理後再沉積 BLOk，因此與銅或鈷的附著性佳，可抑制電遷移。
在大幅降低整個介電堆疊電容的同時，維持蝕刻選擇比與電氣特性。易於與 Low-k 膜 Black Diamond 搭配，讓 45nm 以後的世代轉換更順利。在 Producer 平台上可同時處理最多 6 片。