Producer Celera PECVD 是應用材料（Applied Materials）用於高應力氮化矽膜的 PECVD 系統。針對對電晶體通道施加應變以提高遷移率的應變工程，沉積可調整壓縮・拉伸應力的氮化膜。
將氮化膜沉積與 UV 固化整合在一起，在滿足低熱預算要求的同時，可得到最高 1.7GPa 的拉伸應力。若擴充 RF，同一腔體也能沉積最高 3.5GPa 壓縮應力的薄膜。
採用具量產實績的矽烷 CVD 技術，在取得 70% 階梯覆蓋率與低氫含量的高品質薄膜的同時，也維持作為蝕刻停止層的特性與圖案負載特性。平台為 Twin Chamber 配置的 Producer，設備可跨多個節點沿用。