PROVision 10 eBeam Metrology的特點與規格

PROVision 10 是應用材料（Applied Materials）的電子束（eBeam）量測設備。在最先進的晶片中，需要超越光學標靶近似、統計抽樣與每 1 層個別管理的新型量測。

結合次奈米解析度、高速性、穿透層成像與專用演算法，產生圖案化所需的數百萬點資料。對光學量測看不到的部分，也能在晶圓全面與晶片多個層之間進行精密量測。

支援 2nm 晶圓代工邏輯、GAA 電晶體、次世代 DRAM・HBM、背面供電等最先進設計，有助於提升良率並縮短產品上市時間。